[发明专利]接触式等离子割炬无效

专利信息
申请号: 87103736.X 申请日: 1987-05-27
公开(公告)号: CN1009624B 公开(公告)日: 1990-09-19
发明(设计)人: 魏俊全;欧阳涛;卢崇仁 申请(专利权)人: 核工业部第六研究所
主分类号: B23K10/00 分类号: B23K10/00
代理公司: 核工业部专利法律事务所 代理人: 周尤敏
地址: 湖南省衡阳*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 接触 等离子
【说明书】:

本发明涉及一种等离子割炬,特别是接触式等离子割炬。该割炬专用于切割金属薄板。

现有的接触式等离子割炬(见美国专利US4059743,4055741)采用了螺旋槽式空心圆柱电极和割嘴,提高了零件寿命,但是有两点不足:(1)工作气体是以切线式直接进入电离室,所以电离效果差,能量利用率低;(2)一种割炬,只能使用一种工作气体,也就是只能使用空气或氧气,与此相关,割嘴的冷却,只能使用空气冷却或水冷却,这就限制了割炬的适用范围。

本发明的目的在于提供一种能量利用率高,适用范围广的接触式等离子割炬。

本发明的目的,是通过如下方案实现的。

这种接触式等离子割炬,包括螺旋槽式空心圆柱结构的电极(1)、螺旋槽式漏斗结构的割嘴(2)、割嘴盖(3)、壳体(4)、中心气管(8)、气电缆(16),其特征是:

(Ⅰ)工作气体自气电缆(16)进入中心气管(8),然后分为两路:一路经电极(1)内腔预热后由电极(1)的径向孔(1-e)出来,经电极中部(1-b)螺旋槽进入电离室,提高电离效果;另一路则由阴极杆(7)径向孔(7-a)出来,经导气套(6)环形槽(6-a),径向孔(6-b)进入隔套(5)与导气套(6)间的环形腔,再经割嘴(2)与割嘴盖(3)之间的环形腔,冷却割嘴(2)后,经割嘴(2)的螺旋槽(2-a)喷到割件上,既冷却割件,又抑制弧的扩散。

(Ⅱ)壳体(4)外壁上部连接有弯头(9)及其堵头(10),在隔套(5)与割嘴(2)上部外缘之间加一个O型密封圈,以便必要时将堵头(10)卸下,在弯头(9)上接通水(气)源,并调节水的流量,来适应冷却方式由单一气冷式改成单一水冷式或气水混合式,以及工作气体由空气改成氧气的变化。

附图描述了本发明的实施例。

图1.笔形接触式等离子割炬局部剖视图。

图2.图1中Ⅰ-Ⅰ局部剖面图。

图3.图1中Ⅱ-Ⅱ局部剖面图。

图1给出了笔形接触式等离子割炬的主要结构。该割炬由电极(1)、割咀(2)、割咀盖(3)、壳体(4)、隔套(5)、导气套(6)、阴极杆(7)、中心气管(8)、弯头(9)、堵头(10)、绝缘套(11)、顶盖(12)、弹簧(13)、弹簧座(14)、塔形接头(15)、气电缆(气管中带有软电缆)(16)组成。

电极(1)为多头螺旋槽结构,气冷式,下部为球头形小圆柱体(1-a),其球端嵌有锆或铪;中部为带有多头螺旋槽的大圆柱体(1-b);上部为一带有内螺纹的光滑圆柱体(1-c);上部与中部之间有一环形槽(1-d),槽底有4~6个径向孔(1-e),其位置与螺旋槽对应,如图2所示。

割咀(2)为螺旋槽式漏斗结构,材料为紫铜,下部为带螺旋槽的小圆柱体(2-a),其中心钻有工作气体喷射孔;上部为带圆环体的圆锥漏斗形(2-b)。

割咀盖(3)由铜材料或陶瓷材料制成,用螺纹与壳体(4)连接。割咀(2)与割咀盖(3)之间的环形空腔为冷却室;壳体(4)与铜制隔套(5)之间的环形空腔为冷却水路或气路;隔套(5)与陶瓷导气套(6)之间的环形空腔为冷却气体通道;导气套(6)内腔上部有环形槽(6-a),径向孔(6-b),如图3所示。下部用一止口(或螺纹)与割咀上部形成柱面连接(或螺纹连接);导气套(6)内腔下部与电极外圆周配合,上部与阴极杆(7)配合;铜制阴极杆(7)与电极(1)为螺纹连接,阴极杆(7)内腔有中心气管(8);壳体(4)外壁上部连接有弯头(9)及其堵头(10);阴极杆(7)外圆周与隔套(5)内圆周之间为绝缘套(11),其上部用螺纹与顶盖(12)连接;顶盖(12)内腔有弹簧(13)及弹簧座(14);弹簧座(14)与塔形接头(15)、气电缆(16)连接。

按工作气体种类和割咀冷却方式,利用上述这种割炬结构,可以形成五种类型割炬,即空气等离子气冷式、水冷式、气水混合式及氧气等离子气冷式、水冷式。

当工作气体为空气时,其气路为:压气自气电缆(16)进入中心气管(8),然后分为两路:一路由电极(1)径向孔(1-e)出来,经其中部(1-b)螺旋槽进入电离室;另一路则由阴极杆(7)径向孔(7-a)出来,经导气套(6)环形槽(6-a)、径向孔(6-b)进入隔套(5)与导气套(6)间的环形腔,再经割咀(2)与割咀盖(3)间的环形腔、冷却割咀(2)后经其螺旋槽喷到割件上,既保护了割咀,又冷却了割件,同时还抑制了弧的扩散。

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