[其他]耐热感光耐蚀膜

说明书

一种耐热的感光耐蚀膜，它包括以下主要部分：（ａ）一种由下式所代表的重复单元所组成的聚合物，式中Ｘ为四价Ｃ_6-30碳环基或杂环基：Ｙ为二价Ｃ_6-30碳环基或杂环基；Ｚ为－Ｃ－ＮＨ－，，其中Ｒ和Ｒ′各含一活性Ｃ＝Ｃ键的化合物；Ａ在Ｚ的邻住或迫位。该聚合物在热处理时能转变为热分解温度至少为３５０℃、玻璃化转变温度至多达３５０℃的聚合物；（ｂ）一种含一活性Ｃ＝Ｃ键的化合物：和（ｃ）一种光聚合引发剂。－Ｘ－Ｚ－Ｙ－Ｚ－　（Ａ）₂［Ⅰ］。

本发明涉及一种新型耐热感光耐蚀膜。

近年来，人们进行大量工作，研制用作电子元件和光学元件的耐热光敏聚合材料。这类元件包括表面保护膜，例如接头涂膜、钝化膜、缓冲涂膜和α-粒子保护膜;用于半导体器件的绝缘膜，例如多层电路的层间绝缘膜;用于液晶显示器件的分子定向膜;以及用于薄膜磁头或多层印刷电路板的绝缘膜。

在此以前，用作耐热光敏组合物的是那些已知的能生成交联结构的组合物，该类组合物包括一种聚酰胺酸（它是聚酰亚胺的母体，为光敏化合物）或一种通过将活性官能团（如含双键的官能团）引入到聚酰胺酸（光敏的聚酰亚胺母体）的酯侧链上而制得的聚合物，一种光聚合引发剂和一种交联单体（美国专利第3957512和4287294号）。这些组合物是用于平板印刷的耐热聚合材料的基本组合物，其代表是光敏聚酰亚胺。用这些组合物成像的常用方法是用辊式涂敷机、旋转涂敷机、幕式涂敷机等将组合物溶液涂敷在基片上，干燥后通过一光掩模使所生成的感光涂膜受光化辐照并用有机溶剂显影以在基片上成像。用光敏聚酰亚胺母体的溶液涂敷时需要采用高沸点溶剂，因此，如果感光涂膜很厚就会需要很长的干燥时间，这是不利的。同样，如果用旋转涂敷机将液态光敏聚酰亚胺母体涂敷在基片上，要在基片的整个表面上形成厚度均匀的涂膜也是困难的，其结果是周围区域比中间区域厚。这样，基片上的涂敷产率是低的。已知有一种干的感光耐蚀膜可用作制造印刷电路板的光敏材料，它是由薄膜载体和涂在薄膜上的光敏层所组成。在基片上成像时，可将光敏的干耐蚀膜层合在基片上，同时加压加热，这样就省去了网板印刷中所必需的干燥工序，且在（Ⅰ）所代表的结构重复单元所组成的，式中X为四价C_6-30碳环基或杂环基。X的例子有四价芳环，如苯环和甲苯环;四价多核环稠环，如萘环和蒽环;四价杂环基，如吡啶、甲基吡啶和噻吩;和用下式表示的基团

[Ⅰa]

式中X¹为-CH₂-，，-O-或;

p为0或1。[Ⅰa]式的典型基团是：

从热处理后聚合物的耐热性和聚合物的玻璃化转变温度来看，最好采用这些基团中的3，3′，4，4′-取代的二苯酮或联苯。

[Ⅰ]式中的Y为二价C_6-30碳环基或杂环基。Y的例子有二价芳环，如苯环、甲苯环、二甲苯环和三甲基苯;二价多核环稠环，如萘环和蒽环;由吡啶、甲基吡啶和咪唑衍生而来的二价杂环以及下列化学式所代表的具基片上所生成的涂膜的厚度是均匀的，这是有利的。在这些光敏干膜中已知有一种钎焊遮蔽膜是耐热光敏组合物的层合物。但这种钎焊遮蔽膜仅能耐钎焊温度，不适用于要求耐350℃以上温度的场合。

本发明的一个目的就是要提供一种能在表面保护膜、电子器件和光学器件的绝缘膜和其他各种耐热元件等方面用简单的方法产生精细的耐热图像的耐热感光耐蚀膜。

本发明的其他目的在下面的叙述中是显而易见的。

本发明提供一种耐热的感光耐蚀膜，它包括以下主要组分：

（a）一种由下式所代表的重复单元所组成的聚合物

[Ⅰ]

式中

X为四价C_6-30碳环基或杂环基;

Y为二价C_6-30碳环基或杂环基;

Z为;