[发明专利]锗/硅红外光学镜头(片)镀类金刚石碳膜的方法

权利要求书

1、一种锗/硅红外光学镜头(片)镀类金刚石碳膜的方法，该方法包括将锗/硅镜头(片)基片抛光清洗，用无水洒精清洗后，放在射频溅射机的水冷负电极台板夹具上，充入氩气，开启射频电压至600伏，用氩离子轰击基片表面使其净化，然后，将射频溅射机的真空系统抽真空至6.7×10^-3帕，充入丁烷和氩气(30-50%体积比)的混合气体，开启射频高压使系统产生辉光放电，在锗/硅红外光学镜头(片)基片上便形成类金刚石薄膜，在类金刚石碳膜的沉积过程中，采用逐渐降低功率，逐渐增加气体分压和时间间断的循环方法。

2、根据权利要求1的方法，其特征在于对锗镜头（片）基片镀类金刚石碳膜的具体循环沉积方法为：

第一步：开丁烷与氩气（30-50%体积比）的混合气体阀门，当真空度降至1.2帕时，开启射频高压至2000伏，沉积镀膜5分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，停15分钟，

第二步：开启混合气体阀门，当真空度降至1.3-2.7帕时，开启射频高压至1600伏，沉积镀膜5分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，停15分钟，

第三步：开启混合气体阀门，当真空度降至2.7-4.0帕时，开启射频高压至1200伏，沉积镀膜5分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，停15分钟，

第四步：开启混合气体阀门，当真空度降至4.0-5.3帕时，开启射频高压至1000伏，沉积镀膜5分钟，停15分钟。

第五步：开启混合气体阀门，当真空度降至5.3-6.7帕时，开启射频高压至800伏，沉积镀膜5分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，最后关扩散泵，冷却30分钟停机，对真空室充气，升起钟罩，取出镜片，镀膜过程结束。

3、根据权利要求1的方法，其特征在于对于硅镜头（片）基片镀类金刚石碳膜的具体循环沉积方法为：

第一步：开丁烷与氩气（30-50%体积比）的混合气体阀门，当真空度降至1.2帕时，开启射频高压至2500伏，沉积镀膜3分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，停30分钟。

第二步：开启混合气体阀门，当真空度降至1.3-2.7帕时，开启射频高压至2100伏，沉积镀膜3分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，停30分钟，

第三步：开启混合气体阀门，当真空度降至2.7-4.0帕时，开启射频高压至1700伏，沉积镀膜3分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，停30分钟，

第四步：开启混合气体阀门，当真空度降至4.0-5.3帕时，开启射频高压至1400伏，沉积镀膜3分钟，关闭射频高压电源及混合气体阀门，最后关扩散泵，冷却30分钟停机，对真空室充气，升起钟罩，取出镜片，

镀膜过程结束。