[其他]显示装置

权利要求书

1、一种包括两块平行的透明基片之间的电光媒质的显示装置，该基片具有用于影响电光媒质透射状态的激励装置，所述基片之一具有由至少两种发光材料构成的图案，所述显示装置包括一个射线源，该射线源适合于发射波长短到足以激励各发光材料的射线，其特征在于：

在射线源和各发光材料之间设置一块干涉滤光片，该滤光片基本上完全通过所述短波射线、并且基本上完全反射在各发光材料中所产生的射线。

2、如权利要求1中所要求的显示装置，其特征在于：

所述干涉滤光片和所述各种发光材料被设置在所述射线源和所述电光媒质之间，同时，所述电光媒质包括一种用于控制在所述各发光材料中所产生的光线的光线开关。

3、如权利要求1中所要求的显示装置，其特征在于：

所述干涉滤光片被设置在所述电光媒质和所述各发光材料之间、并且在电光媒质的远离所述射线源的一侧，同时，所述电光媒质包括一种用于控制激励各发光材料的射线的开关。

4、如上述各权利要求中任一项所要求的显示装置，其特征在于：所述电光媒质包括一种液晶材料。

5、如上述各权利要求中任一项所要求的显示装置，其特征在于：所述干涉滤光片是一种电介质滤光片：它包括至少20层交替地具有高的和低的折射率的电介质层，所述各层基本上可完全通过所述激励射线、并且基本上可完全反射各发光材料中所产生的射线。

6、如权利要求5中所要求的显示装置，其特征在于：

-具有高折射率的各层由下列各材料中的一种或几种构成：氧化铪（HfO₂）、氧化锆（ZrO₂）、氧化钛（TiO₂）、氧化钽（Ta₂O₅）或氧化铌（Nb₂O₅），

-具有低折射率的各层由下列各材料中的一种或几种构成：氟化镁（MgF₂）或氧化硅（SiO₂）。

7、如权利要求1至4中任一项所要求的显示装置，其特征在于：所述干涉滤光片包括3至5层、这些层交替地是金属层和电介质材料层。

8、如上述各权利要求中任一项所要求的显示装置，其特征在于：

-所述射线源发射具有254毫微米中心波长的射线，

-选择下列各材料中的一种或多种材料构成荧光粉图案：

BaMg₂Al₁₆O₂₇和Eu的组合物，作为兰光荧光粉，

CeMgAl₁₁O₁₉和Tb的组合物，作为绿光荧光粉，

Y₂O₃和Eu的组合物，作为红光荧光粉，

9、如权利要求1至7中任一项所要求的显示装置，其特征在于：所述射线源可发射360至380毫微米波长范围内的射线。

10、如上述各权利要求中任一项的显示装置，其特征在于：在由发光材料构成的图案的另一侧上、设置一个图案形的第二干涉滤光片，同时，对于扩散在相对于所述滤光片法线的、大于20°至35°的角度范围内的光线来说、反射大大地增强了。