[发明专利]泵

说明书

本发明是关于一种适用于超高纯水、强酸、强碱或类似物质使用的泵。

日本专利文件特公昭43-21328公开了一种旋转泵，在该泵中包括转子，该转子安装在轴承支承装置上。有流动液的吸入口及排出口，也包括阻隔轴承套所产生的杂质和流动液混合物的阻隔装置。但是这种泵并不能解决泵体内的超高纯流动液体的问题。而仅能解决限制轴承冷却液进入叶轮室内的流量。

近年来，在半导体生产中需要适高纯度的水，例如图5所示即为一种用于半导体生产过程中的适高纯水管线中所常见的转子泵，其中

1为外壳体，壳体上有吸主流动液（超高纯水）的吸液口和排主流动液的排液口。2为装于外壳体1中的转子。转子2的作用是将主流动液从吸液口1b送到排液口1c。

转子2的轴2a安装在外壳体1的泵体1a中。

6为泵体1a内表面和轴2a外表面间的环形密封件。

8为泵体1a内表面和轴2a外表面间的环形轴承。密封件6和轴承8均为能使转子2的轴2a在其上滑动的滑动件。

9为固定在泵体1a端部的基底密封件。10为电动机，它与轴2a组合使转子2转动。

因此，电动机10一通电，转子2便转动，于是主流动液经吸液口1b吸入，从排液口1c排出。

另外，液体倾向于轴向流入轴2a和泵体1a间的微小间隙，但它再往前流则受到密封件6的阻拦。只要泵一运行，液体便在密封件前的外壳体1内循环。

因为转子2的轴2a在轴承8和密封件6上滑动转动，轴承8和密封件6会分别产生少量杂质或污物即磨损物质。少量杂质与外壳体1内部液体混合，这样超高纯度液体便被污染。

例如，半导体生产过程中要用的纯化水必须有很高的纯度，方能防止这样的杂质粘附在半导体上，从而提高半导体产品的性能。所以半导体工业中要用超高纯度水。

象这样的普通泵中，滑动部件产生的杂质与泵壳内部流过的超高纯度水混合，水便被杂质污染，因此半导体产品的产量大大下降。术语“杂质”，按本发明，即指污物。

本发明的总目的就是提供一种泵，使转子泵内部流动的超高纯液体能够送到指定地方，而又不与泵的滑动件产生的杂质混合，继续保持液体的纯度。

为了完成本发明的任务，采用了这样一种泵，该泵包括外壳，该外壳具有吸入主流动液的吸液口和一个排主流动液的排液口，位于壳体内的轴承支承装置，置于该支承装置上的轴承，安装在轴上的转子，所述轴可转动地安装在轴承内，在轴承和轴之间有间隙，以及阻止由轴承套所产生的杂质和从排液口排出的液体混合物的阻隔装置，其特征在于：所述的阻隔装置包括将液体从排液口分流到将该分流液与杂质混合的间隙中的分流装置，以及将该分流液体和杂质的混合物从壳体中排出的装置。

本发明还可以采用另一种结构的泵，即其特征在于：该泵还包括将分流液体和轴承套所产生的杂质相混合的装置，该装置阻止了杂质主流动液的混合，使主流动液从排液口排出，并将分流液体和杂质的混合物排出壳体之外。

从以下对本发明最佳实施例的说明和附图中，将会明显看到本发明的其他目的、特性和优点，当然，在不违背所公开内容的精神实质和新颖构思的前提下，还可以进行变更和修改，而并不超出本发明的范围。

图1A为按本发明第一个实施例的剖面图。

图1B为第一个实施例用于密封电动泵的剖面图。

图2为按本发明第二个实施例的剖面图。

图3A为按本发明第三个实施例的剖面图。

图3B为图3A中b-b剖面图。

图3C为图3A中c-c剖面图。

图3D为图3A中前部份的放大剖面图。

图4A为本发明的第四个实施例的剖面图。

图4B为第四个实施例中轴座剖面图。

图4C为第四个实施例中前轴承放大剖面图。

图5为普通转子泵剖面图。

下面，结合最佳实施例对本发明进行详细说明。

现参照图1A和1B叙述本发明第一个实施例。

因为与图5中普通转子泵相同结构的部份具有相同编号，因此说明从略。

图1A为本发明第一个实施例的垂直剖面图。

其中3为支管，它的一端通外壳体排液口1c近处的流道，另一端通泵体1a内表面上的集流环槽4。支管3是一条支流道，在它的最佳位置处装有一针阀3a。

本实施例中集流环槽4位于转子2和环形密封件6之间，分成两排。当然，只设置一个集流环槽4也可以。