[其他]泵无效

专利信息
申请号: 87106608 申请日: 1987-09-28
公开(公告)号: CN87106608A 公开(公告)日: 1988-04-13
发明(设计)人: 多贺润 申请(专利权)人: 三井物产株式会社;多贺润
主分类号: F04D1/00 分类号: F04D1/00;F04D29/10;F04D29/70
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 石小梅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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【说明书】:

发明是关于一种适用于超高纯水、强酸、强碱或类似物质使用的泵。

图5为先有技术中一转子泵的例子,该泵用于半导体生产过程中的超高纯水管线中。

1为外壳,壳上有吸主流动液(超高纯水)的吸液口和排主流动液的排液口。2为装于壳体1中的转子。转子2的作用是将主流动液从吸液口1b送到排液口1c。

转子2的轴2a安装在外壳1的泵体1a中。

6为泵体1a内表面和轴2a外表面间的环形密封件。

8为泵体1a内表面和轴2a外表面间的环形轴承。密封件6和轴承8均为能使转子2的轴2a在其上滑动的滑动件。

9为固定在泵体1a端部的基底密封件。10为电动机,它与轴2a组合使转子2转动。

因此,电动机10一通电,转子2便转动,于是主流动液经吸液口1b吸入,从排液口1c排出。

另外,液体倾向于轴向流入轴2a和泵体1a间的微小间隙,但它再往前流则受到密封件6的阻拦。只要泵一运行,液体便在密封件前的壳体1内循环。

因为转子2的轴2a在轴承8和密封件6上滑动转动,轴承8和密封件6会分别产生少量杂质或污物即磨损物质。少量杂质与壳体1内部液体混合,这样超高纯液体便被污染。

例如,半导体生产过程中要用的纯化水必须有很高的纯度,方能防止这样的杂质粘附在半导体上,从而提高半导体产品的性能。所以半导体工业中要用超高纯度水。

像这样的普通泵中,滑动部件产生的杂质与泵壳内部流过的超高纯度水混合,水便被杂质污染,因此半导体产品的产量大大下降。术语“杂质”,按本发明,即指污物。

本发明的总目的就是提供一种泵,使转子泵内部流动的超高纯液体能够送到指定地方,而又不与泵的滑动件产生的杂质混合,继续保持液体的纯度。

更确切地说,根据本发明,泵的组成包括一个带轴的转子;一个内装转子的外壳;一个吸主流动液即超高纯水的吸液口和排主流动液的排液口;以及一个与外壳联成一体的泵体。其中在外壳和滑动件间的微小间隙中流动着阻隔液流,以阻隔泵体内如轴承之类滑动件产生的杂质。阻隔液流从主流动液中分流出来。因此可使外壳内部流动的主流动液避免与杂质混合。

从以下对本发明最佳实施例的说明和附图中,将会明显看到本发明的其他目的、特性和优点,当然,在不违背所公开内容的精神实质和新颖构思的前提下,还可以进行变更和修改,而并不超出本发明的范围。

图1A为按本发明第一个实施例的剖面图。

图1B为第一个实施例用于密封电动泵的剖面图。

图2为按本发明第二个实施例的剖面图。

图3A为按本发明第三个实施例的剖面图。

图3B为图3A中b-b剖面图。

图3C为图3A中c-c剖面图。

图3D为图3A中前部份的放大剖面图。

图4A为本发明的第四个实施例的剖面图。

图4B为第四个实施例中轴座剖面图。

图4C为第四个实施例中前轴承放大剖面图。

图5为普通转子泵剖面图。

下面,结合最佳实施例对本发明进行详细说明。

现参照图1A和1B叙述本发明第一个实施例。

因为与图5中普通转子泵相同结构的部份具有相同编号,因此说明从略。

图1A为本发明第一个实施例的垂直剖面图。

其中3为支管,它的一端通外壳1排液口1c近处的流道,另一端通泵体1a内表面上的集流环槽4。支管3是一条支流道,在它的最佳位置处装有一针阀3a。

本实施例中集流环槽4位于转子2和环形密封件6之间,分成两排。当然,只设置一个集流环槽4也可以。

5为排管(排液道),它的一端与集流环槽4相通,排管5的另一端通外壳1的吸液口1b。在排管5的最佳位置处装有单向阀5a、针阀5b和过滤装置5c。其中过滤装置5c由两个过滤器和几个针阀组成。

7为排液环槽,该槽在泵体1a内表面上,位于密封件6和轴承8之间。排液槽7有1个排放污染液的排管7a。

本实施例的具体功能如下:

当电动机10驱动转子2开始转动时,主流动液(超高纯水)经吸液口1b吸入,经排液口1c排出,排液口1c附近的主流动液的压力增加。

另外,部份主流动液经支管3进入集流槽4,再进入排管5。随后,流入排管5的主流动液流经过滤装置5c回到靠近吸液口1b的主流道。

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