[其他]分离磁体式平面磁控溅射源无效
申请号: | 87106947 | 申请日: | 1987-10-12 |
公开(公告)号: | CN1003655B | 公开(公告)日: | 1989-03-22 |
发明(设计)人: | 王德苗;任高潮 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 浙江大学专利代理事务所 | 代理人: | 连寿金 |
地址: | 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分离 磁体 平面 磁控溅射 | ||
1、一种分离磁体式平面磁控溅射源,包括磁场源、溅射靶及水冷器,其特征在于:
-所述的磁场源由固定的环状外磁组件2和一个或多个可作旋转运动的内磁组件1构成,其中,内磁组件1包括极靴1″′、外磁体1′和内磁体1″。
-内磁组件1设置于水冷器中,且冷却水优先进入内磁组件腔Ⅲ,并从内磁组件1的上部溢出。
2、根据权利要求1的磁控溅射源,其特征在于:内磁组件1的极靴1″′是扇状,并偏心地安装在转轴6上,其上布置有V形外磁体1′和扇形内磁体1″。
3、根据权利要求1的磁控溅射源,其特征在于:内磁组件1的极靴1″′是盘状,与转轴6同心设置,其上布置有辐射状外磁体1′和多个扇形内磁体1″。
4、根据权利要求1的磁控溅射源,其特征在于:内磁组件1的极靴1″′是盘状,与转轴6同心设置,其上布置有两个ω形外磁体1′和一个与之相匹配的内磁体1″。
5、根据权利要求1的磁控溅射源,其特征在于:水冷器的冷却水自进水管14引入,经过水腔Ⅰ、转轴6的中心深孔及水腔Ⅱ,进入内磁组件腔Ⅲ,并从其上部溢出到水腔Ⅳ,由铜质出水管16引出。
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