[发明专利]可曝光成像的焊接掩膜涂料

权利要求书

1.一种焊接掩膜涂料组合物，其特征在于：该组合物含有(1)一种树脂粘合剂；(2)一种交联剂和(3)一种选自羧酸化氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯二丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯三丙烯酸酯和羧酸化氨基甲酸酯三甲基丙烯酸酯的紫外线光敏聚合物；通过使含有成分(a)、(b)和(c)的反应混合物缩合制备该紫外线光敏聚合物，成分(a)是一种带有6至18个碳原子的二异氰酸酯，成分(b)是通式为〔OH〕_x—R₆—COOH的羧酸多羟基化合物，式中X可以是2至5的整数，R₆是直链或支化，饱和、不饱和或芳香类带2至29个碳原子的烃基，成分(c)为甲基丙烯酸羟烷酯，其中的烷基带有2至28个碳原子；成份(a)的用量为反应混合物总重量的30％至80％；成份(b)的用量为反应混合物总重量的5％至45％而使每克反应混合物总量的酸量至少为0.3毫克当量；成份(c)的用量为反应混合物总重量的5％至50％而使每克反应混合物总量的丙烯酸酯量至少为0.5毫克当量，其中紫外线光敏聚合物具有亲水性，并且在紫外线照射之前，由此涂料组合物制备的焊接掩膜涂层在pH值大于7.5的水溶液中可溶或可溶胀，而且紫外线光敏聚合物应达到组合物总重量的10—85％。

2.权利要求1所述的组合物，其特征在于反应混合物还包括一种带有2至28个碳原子和2至5个羟基的多羟基化合物。

3.权利要求1所述的组合物，其特征在于反应混合物还包括一种通式如下的二元羧酸：

            〔OH〕_y—R₇—(COOH)₂式中y是1至5的整数，R₇是带1至28个碳原子的烃基。

4.权利要求1所述的组合物，其特征在于组分(b)还选自α，α—二羟甲基乙酸、α，α—二羟甲基丙酸、α，α—二羟甲基丁酸、α，α—二羟乙基乙酸、α，α—二羟乙基丙酸和α，α—二羟乙基丁酸。

5.权利要求1所述的组合物，其特征在于粘合剂是玻璃化转变温度为155℃或更高的苯乙烯/马来酸酐共聚物。

6.权利要求1所述的组合物，其特征在于每克总量的反应混合物带有0.8至1.6毫克当量的酸。

7.权利要求3所述的组合物，其特征在于反应混合物还含有带2至5个羟基和2至28个碳原子的多羟基化合物。

8.前述任一项权利要求所述的组合物，其特征在于二异氰酸酯选自：1—异氰酸基—3—异氰酸基—甲基—3，5，5—三甲基环己烷；二甲苯基二异氰酸酯；3，3′—二甲基二苯基甲烷—4，4′—二异氰酸酯；2，4—亚苄基二异氰酸酯；2，6—亚苄基二异氰酸酯；2，2，4—三甲基己撑二异氰酸酯；2，4，4—三甲基己撑二异氰酸酯；甲撑二(4—环己基二异氰酸酯)；己撑二异氰酸酯；1，5—亚萘基二异氰酸酯；间苯二异氰酸酯；间—四甲基二甲苯二异氰酸酯；对四甲基二甲苯二异氰酸酯和甲撑二苯基二异氰酸酯。