[发明专利]光学记录介质

权利要求书

1、制作光学储介质的方法，其特征为包括：

a)在基片材料表面上覆盖一层由软金属合金覆层构成的薄膜，所述软金属合金覆层被牢固地贴到所述基片的表面上，该合金是从具有下列重量百分比含量的合金组中选出的；

Sn(5-95)、Bi(5-95)和Cu(0至40)；

Sn(5-95)、Bi(5-95)和Ag(0至49.9)；

Sn(70-75)、Bi(20-25)和Cu(0-5)；

Zn(5-95)、Cd(5-95)和Ag(0-49.5)；

Zn(5-95)、Cd(5-95)和Mg(0-10)；

Bi(5-95)、Cd(5-95)和Ag(0-49.5)；

Sn(40-94)；Sb(3-30)、Bi(3-37)和

Cu(0-40)；Sn(至少8)、Bi(至少8)和Mg、Au、Fe、Cr、Mn、Cn、Ag和Ni中的至少一种(至少1)且其中Bi的含量大于Mg、Au、Fe、Cr、Mn、Cu、Ag和Ni中任一个；Sn(25-90)、Bi(8-60)、和Cu(1-25)，并随后

b)将编码信息加到所金属覆层上，所述编码信息是以所述覆层表面的交替变化的形式存在的，这种交替变化是能用光学方法读取的。

2、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述覆层厚度在20到10，000埃的范围内。

3、权利要求1的光学存储器介质的制造方法，其特征为所述覆层是含有重量百分比约为5%到95%的锡，大约5%到95%的铋。以及0到大约40%的铜的金属合金。

4、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为通过冲压所述带有覆层的表面来提供所述的编码信息。

5、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述的编码包括用激光变化所述金属合金的方法形成的编码。

6、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述编码包括在具有覆层的表面上热力形成的轨道和在轨道中交互上升和下降的表面。所述交互上升和下降的表面部分使光信号产生差别，从而可以所述介质中读出编码信息。

7、权利要求6的光学存储介质的制造方法，其特征为所述的轨道和所述交互升降的表面是用热成形的方法同时形成的。

8、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述的基片是薄片的形式，并且在进行所述编码信息的编码时或编码后，将所述光学存储介质从所述具有覆层的薄片上切下来。

9、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为还包括为所述金属合金覆层提供保护层。

10、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述编码信息被置于所述具有覆层的表面，同时保持所述薄膜覆层的连续性。

11、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述编码包信号包括用形成有交互上升和下降表面部分冲压所述具有覆层的表面。

12、权利要求11的光学存储介质的制造方法，其特征为所述上升和下降表面部分包括轨道。

13、权利要求1的光学存储介质制造方法，其特征为基片是从玻璃，陶瓷，环氧树脂，塑料，纤维强化塑料，金属及它们的复合物中选择出来的，软金属合金包括重量比大约为5%到95%的锡，约5%到95%的铋以及0到大约40%的铜。

14、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述基片为薄片形。

15、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述基片是热塑性膜，并将所述热塑性膜覆盖到另一个基片上，然后压这个热塑性膜。

16、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述基片是经金属敷镀和编码的热塑性盘、带或卡。

17、权利要求16的光学存储介质，其特征为还包含为所述覆盖表面提供的保护层。

18、权利要求1的光学存储介质的制造方法，其特征为所述基片包括非变形的材料，所述编码包括用激光使所述金属合金变化的方法形成。

19、权利要求18的光学存储介质制造方法，其特征为金属合金含有重量百分比约为5%到95%的锡，大约5%到大约95%的铋，以及0到大约40%的铜。