[其他]铁磁膜及使用该膜的磁头无效

专利信息
申请号: 88101596 申请日: 1988-03-25
公开(公告)号: CN88101596A 公开(公告)日: 1988-10-05
发明(设计)人: 小林俊雄;中谷亮一;大友茂一;熊坂登行 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H01F10/14 分类号: H01F10/14;C22C38/00;G11B5/31
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 陈景峻
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 铁磁膜 使用 磁头
【权利要求书】:

1、一种由铁磁材料构成的铁磁膜,该铁磁材料除包括铁作为主要成份外,还包括对于铁是间隙可溶的元素,其特征在于:上述铁磁材料进一步包括从Ni,Rh,Ru,Pd,Zr,Nb,Ta,Ag,Os,Ir,Pt,Au,Cr,Mo,W,Ti,Bi,V,Co和Cu一组元素中选用的至少一种元素,其浓度为0.5-5原子百分比。

2、根据权利要求1的铁磁膜,其中对于铁是间隙可溶的元素是从B、C、N和P中选出的至少一种元素,其在铁磁材料中的浓度值为1-15原子百分比。

3、一种通过交替沉积主磁膜和中间膜而形成的多层铁磁膜,其特征在于:主磁膜用由铁磁材料构成的耐腐蚀材料形成,该铁磁材料以铁作为主要成份,此外还包括一种对于铁是间隙可溶的元素,并以0.5-5原子百分比的浓度包括从Ni,Rh,Ru,Pd,Zr,Nb,Ta,Ag,Os,Ir,Pt,Au,Cr,Mo,W,Ti,Bi,V,Co和Cu中选出的至少一种元素,中间膜由与主磁膜不同的金属膜构成。

4、一种磁头,其特征在于至少有一个磁极的一部分是由铁磁膜形成,该铁磁膜由铁磁材料构成,它除以铁为主要成份外,包括一种对于铁是间隙可溶的元素,还以0.5-5原子百分比的浓度包括从Ni,Rh,Ru,Pd,Zr,Nb,Ta,Ag,Os,Ir,Pt,Au,Cr,Mo,W,Ti,Bi,V,Co和Cu中选出的至少一种元素。

5、根据权利要求4的磁头,其中对于铁是间隙可溶的元素是从B、C、N和P中选出的至少一种元素,其在铁磁材料中的浓度值为1-15原子百分比。

6、一种磁头,其特征在于至少有一个磁极的一部分是通过交替沉积一主磁膜和一中间膜而形成的多层铁磁膜,主磁膜由耐腐蚀铁磁膜形成,该铁磁膜由铁磁材料构成,它除以铁为主要成份外,包括一种对于铁是间隙可溶的元素,还以0.5-5原子百分比的浓度包括从Ni,Rh,Ru,Pd,Zr,Nb,Ta,Ag,Os,Ir,Pt,Au,Cr,Mo,W,Ti,Bi,V,Co,和Cu中选出的至少一种元素,中间膜由与主磁膜不同的金属膜形成。

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