[发明专利]反射式表面标志及其制作方法

权利要求书

1、一组标志，包括能够和嵌入到基质中的玻璃珠一起形成一种标志材料基质的材料，其特征在于，这样的基质形成材料在20℃时是液态，并且这些玻璃珠是经过表面处理的，这些处理过的玻璃珠具有这样的表面涂层，即包括至少一种选自氯代、溴代、碘代、氨基、氯氨基、基和环氧基的化合物，使得用这里提到的方法测量时，这些处理过的珠子的表面张力高于该液态基质形成材料的表面张力，最好在30到51毫牛顿/米的范围内(包括首尾两个值)。

2、一组标志，包括能够和嵌入到基质中的玻璃珠一起形成一种标志材料基质的材料，其特征在于这样的玻璃珠是经过表面处理的，这些处理过的玻璃珠具有这样的表面涂层，即包括至少一种选自氯代、溴代、碘代、氨基、氯氨基、基和环氧基的化合物，使得用这里提到的方法测量时，这些处理过的珠子的表面张力在30到51毫牛顿/米的范围内（包括首尾两个值），并且在基质形成材料是液态的以及处理过的珠子在与基质形成材料初次接触时其表面张力大于基质形成材料的表面张力的条件下，使所说的珠子与该基质形成材料进行接触。

3、根据权利要求1或2的一组标志，其中处理过的玻璃珠的表面张力在33到48毫牛顿/米范围内（包括首尾两个值），且较佳的是在37到45毫牛顿/米的范围内（包括首尾两个值）。

4、根据权利要求1或2的一组标志，其中该处理过的玻璃珠有一层包含至少一种硅烷的表面涂层。

5、根据权利要求1或2的一组标志，其中该处理过的玻璃珠有一层表面涂层，它由包含至少一种其作用在于降低珠子的表面张力的第一物质（“张力降低物”）和至少一种其作用在于调节由该张力降低物得到的表面张力的减少量的第二物质（“张力调节物”）的几种物质的混合物组成。

6、根据权利要求5的一组标志，其中所说的张力降低物包含一种能够在玻璃珠与该基质之间形成键的偶合化合物。

7、根据权利要求6的一组标志，其中所说的张力降低物包含一种有机官能团的硅烷，它最好选自环氧基的，苯基的，和氨基的硅烷或选自烯属硅烷。

8、根据权利要求5的一组标志，其中所说的张力调节物包含一种选自氯代、溴代、碘代、氨基、氯氨基、基和环氧基的化合物的有机的或有机-金属化合物。

9、根据权利要求8的一组标志，其中所说的张力调节物包含一种氯基的硅烷。

10、根据权利要求9的一组标志，其中所说的张力调节物是一种氯苯基的硅烷或一种氯丙基的硅烷。

11、根据权利要求5的一组标志，其中在处理过的珠子的涂层中，张力调节物在重量上是张力降低物的1到3倍。

12、根据权利要求1或2的一组标志，其中表面处理过的玻璃珠是厌水的，且它们的表面张力在用这里提到的方法测量时在30到70毫牛顿/米的范围内。

13、根据权利要求1或2的一组标志，其中处理的玻璃珠是厌水的，并且它们的表面张力在30到51毫牛顿/米的范围内（包括首尾两个值）。

14、一种制作表面反射式标志的方法，其特征在于它包括：

在一表面上涂覆液态基质形成材料标志层，然后在该基质形成材料刚涂覆且呈液态时，在它的上表面撒上至少有一些是经过表面处理的玻璃珠，这些处理过的玻璃珠具有这样的表面涂层，即包括至少一种选自氯代、溴代、碘代、氨基、氯氨基、基和环氧基的化合物，从而使该珠子的表面张力在用这里提到的方法测量时大于撒珠子时该基质形成材料的表面张力，最好在30到51毫牛顿/米的范围内（包括首尾两个值）。

15、根据权利要求14的方法，其中所说的玻璃珠是经过处理后为厌水的，且它们的表面张力在30-51毫牛顿/米的范围内（包括首尾两个值）。

16、根据权利要求14或15的方法，其中所说的反射式标志是做在铺筑的表面上的。