[发明专利]用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物无效
| 申请号： | 89101298.2 | 申请日： | 1989-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1039904A | 公开（公告）日： | 1990-02-21 |
| 发明（设计）人： | 保罗·L·K·洪;肯尼思·K·S·采恩 | 申请（专利权）人： | M&T化学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海专利事务所 | 代理人： | 徐志奇 |
| 地址： | 美国新泽西*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 溶剂 显影 光刻 涂层 含水 显影剂 组成 | ||
【权利要求书】：
1、一种用于显影焊料光刻掩模涂层的显影剂组成物，包括：
a)约0.5-10%重量的表面活性剂，
b)约0.2-10%重量的萜烯，及
c)其余为水。
2、根据权利要求1所述的一种用于焊料光刻掩模的显影剂组成物，其特征在于其包括：
a）约3-6%重量的表面活性剂，
b）约4-8%重量的萜烯，及
c）其余为水。
3、根据权利要求1所述的一利用于焊料光刻掩模的显影剂组成物，其特征在于其是以一乳化液形成存在的。
4、根据权利要求1所述的一种用于焊料光刻掩模的显影剂组成物，其特征在于其中所述的萜烯为α-萜二烯。
5、根据权利要求1所述的一种用于焊料光刻掩模的显影剂组成物，其特征在于其还包括一消泡剂。
6、根据权利要求1所述的一种用于焊料光刻掩模的显影剂组成物，其特征在于其中所述的表面活性剂为一非离子表面活性剂或其混合物。
7、一种用于焊料光刻掩模的显影剂组成物浓缩液，包括：
a）约35-65份重量的表面活性剂，及
b）约40-55份重量的萜烯。
8、一种显影未曝光的通常只有用有机溶剂才可显影的焊料光刻掩模涂层的方法，包括用权利要求1的显影剂组成物限定所述的涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于M&T化学有限公司，未经M&T化学有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/89101298.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
