[发明专利]一种电摄影用的光敏器件无效

专利信息
申请号: 89103212.6 申请日: 1989-04-03
公开(公告)号: CN1029162C 公开(公告)日: 1995-06-28
发明(设计)人: 早川尚志;成川志郎;大桥邦夫 申请(专利权)人: 夏普公司
主分类号: G03G5/08 分类号: G03G5/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 肖椈昌,李先春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 一种 摄影 光敏 器件
【权利要求书】:

1、一种电摄影用的光敏器件(1),包括电导基片(2)和形成在该基片(2)上的光导层(4),其中所说的光导层(4)是用电子回施共振方法由含氢和/或卤素以原子数计占40%或以上的非晶形硅构成的。

2、按权利要求1的电摄影用的光敏器件(1),其中所说的光导层(4)是由含氢和/或卤素以原子数计占40-60%的非晶形硅构成的。

3、按权利要求2的光敏器件(1),其中所说的光导层(4)是由含氢和/或卤素以原子数计占40-50%的非晶形硅构成的。

4、按权利要求1的光敏器件(1),其中所说非晶形硅在2100cm-1附近吸收系数与在2,000cm-1附近的吸收系数之比是在1.3-2.5范围之间。

5、按权利要求1的光敏器件(1),其中所说的非晶形硅的红外光谱中,在840cm-1附近的积分吸收强度与在880cm-1附近的积分吸收强度的比是在0.2-0.6范围之间。

6、按权利要求1的光敏器件(1),还包括一层夹在基片(2)和光导层(4)之间的中间层(3)和一层形成在所说光导层(4)上的外涂层(5)。

7、按权利要求1的光敏器件(1),其中所说的光导层(4)添加有周期表ⅢA族的一种元素作为杂质。

8、按权利要求1的光敏器件(1),其中所说的光导层(4)添加有周期表ⅤA族或ⅥA族的一种元素作为杂质。

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