[发明专利]一种制造固态器件的方法及其产品无效
| 申请号： | 89103498.6 | 申请日： | 1989-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1020992C | 公开（公告）日： | 1993-05-26 |
| 发明（设计）人： | 简·埃德加·埃维茨;罗伯特·恩内斯特·索梅克 | 申请（专利权）人： | 英国技术集团有限公司 |
| 主分类号： | H01L39/24 | 分类号： | H01L39/24;H01L39/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 罗宏 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制造 固态 器件 方法 及其 产品 | ||
1、一种制造固态器件的方法，此方法是通过含金属的靶向含氧化铝基片上溅射材料的方式形成至少一种金属的氧化物外延层，所述金属包括至少一种选自镁、锶、钛和锆组成的金属组中的金属，和随后在所述金属氧化层上形成包括钇、钡、铜和氧的化合物的外延层。
2、根据权利要求1的制造固态器件的方法，其特征在于所述金属是镁。
3、根据权利要求2的制造固态器件的方法，其特征在于从所述的含镁靶溅射材料时，所述的基片要加热到750-900℃之间的温度。
4、根据权利要求3的制造固态器件的方法，其特征在于从所述的含镁靶溅射材料时，要保持氧化的环境气氛。
5、根据权利要求4的制造固态器件的方法，其特征在于氧化的环境气氛包括氧。
6、根据权利要求4的制造固态器件的方法，其特征在于氧化的环境气氛包括氧化亚氮。
7、根据权利要求5或6的制造固态器件的方法，其特征在于氧化的环境气氛包括氩。
8、根据权利要求1的制造固态器件的方法，其特征在于所述的金属氧化物外延层的厚度是100毫微米数量级。
9、根据权利要求2的制造固态器件的方法，其特征在于它包括的氧化镁层是以其（100）面紧接氧化铝基片的（1012）面。
10、根据权利要求2的制造固态器件的方法，其特征在于它包括的氧化镁层是以其（110）面紧接氧化铝基片的（0110）面。
11、根据权利要求2的制造固态器件的方法，其特征在于它包括的氧化镁层是以其（111）面紧接氧化铝基片的（1120）面。
12、根据权利要求2的制造固态器件的方法，其特征在于它包括的氧化镁层是以其（111）面紧接氧化铝基片的（0001）面。
13、一种固态器件，其特征在于它包括钇、钡、铜和氧的化合物的第一外延层（12），此外延层是在一氧化铝昌体基片上的包括至少一种选自镁、锶、钛和锆组成的金属组中的金属的氧化物的第二外延层（11）上形成的。
14、根据权利要求13的固态器件，其特征在于所述的金属氧化物是氧化镁。
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