[发明专利]薄膜陶瓷强化金属表面技术无效

专利信息
申请号: 89103515.X 申请日: 1989-05-27
公开(公告)号: CN1017068B 公开(公告)日: 1992-06-17
发明(设计)人: 汪树成 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C23C16/30 分类号: C23C16/30;C23C16/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 陶瓷 强化 金属表面 技术
【说明书】:

发明涉及一种薄膜制造技术,特别是一种BN-SiN薄膜陶瓷强化金属表面的技术。

薄膜陶瓷比一般精细陶瓷具有更好的耐高温、耐氧化、耐腐蚀和耐磨性以及更高的硬度、强度和韧性。因此在工业领域中,特别是在机械工业中的刀具、工模具、齿轮、轴承等易损基础件,以及航天、原子能工业、纤维涂层、电子元件、光学零件和各种汽轮机上,都得到了广泛的应用,已成为高技术产业的主要材料。

国内外制膜技术发展很快,制膜方法也很多。对磨损大的机械产品零部件,常采用较为简单的镀铬Cr、镀Ni-P为代表的湿化工艺。因电镀工艺有毒,对环境污染大,且对耐磨性能要求高的涂件,这种方法又远不能满足要求。因此出现了以蒸发、溅射、离子镀、化学气相淀积即CVD(chemical vapour deposition)技术为代表的干法工艺。显然,沉积氮化物时,工作气体是氮(N2),有机硅化物,有机硼化物,膦等气体。不同的有机物沉积出不同的氮化物。在要求耐高温、耐磨、涂层厚的场合,则反应性离子镀是一种较为合适的方法,而一般涂复钛(Ti)或氮化钛(TiN),其耐磨性不高,附着力弱,薄膜易脱落。也有人制造成了陶瓷刀、中子处理刀等,但造价太昂贵,不宜在工业生产中广泛应用。

目前多采用离子镀。一般镀TiN(氮化钛)、TiC(碳化钛)、Al2O3(氧化铝)等有代表性的氮化物、碳化物。如合金刀具上采用TiC、TiN、Al2O3三层结构,且Al2O3要镀多层,以解决韧性问题。即与金属结合靠TiC,耐磨靠TiN,韧性靠Al2O3。但这种工艺过程复杂,硬度也不很高。也有人正在研究应用等离子复合钢结硬质合金时效强化技术,以提高硬度。但该工艺使用超高温(40000°K~10000°K)等离子喷涂技术,将涂复材料喷焊在钢件表面,有一定局限性,镀件往往是工模具。

迄今,经过检索未发现有BN-SiN薄膜陶瓷并将其应用于强化金属表面。最近日刊“机械工艺师”1989.No3.P50,刊登了“高速车削用新涂层刀片”AC105,它是在硬质合金基体表面先涂一层TiC。再涂一层Al2O3,最后涂一层TiN。用于切削铸铁时,f(mm/rev)为0.35~0.63(每转切削量)。而本发明的薄膜陶瓷镀层刀片,则f(mm/rev)为1.2~2.1。

本发明的目的是提供一种BN-SiN薄膜陶瓷强化金属表面的新技术。它包括BN-SiN复合薄膜陶瓷材料和这种复合材料在金属表面的镀复工艺。本发明的BN-SIN薄膜陶瓷镀复材料能与金属结合,且能在金属表面起改性作用,从而达到强化金属表面,提高其表面硬度、韧性,且具有耐磨、抗腐蚀等性质。

本发明的设计思想是,由BN-SiN构成的薄膜陶瓷,不仅薄膜本身是由微晶与非晶体组成,当其尺寸小到一定程定时,就会出现新的特性;并且它与金属相结合时,会发生一些表面、界面现象,利于金属表面改性,从而达到本发明的目的。

本发明首次采用了低温等离子体CVD技术,即低温P-CVD,按“气体+气体 ()/(△) 固体”反应原理,靠等离子体能量,在不管是基体材质不同、形状大小或复杂与否的金属表面一次合成出BN-SIN复合薄膜陶瓷并完成在金属表面的镀复。要解决镀复材料与金属的结合问题,必须解决附着力、应力、膨胀系数等问题。要达到金属表面改性的目的,镀复材料必须是功能薄膜。BN-SiN薄膜陶瓷是一种中性陶瓷薄膜,是非晶、微晶、多晶复合晶体。晶体中有C-BN相(立方晶体)、h-BN相(六方晶体)。因C-BN是立方晶体结构,即金刚石结构,它的显微威氏硬度为4600~8600kg/mm2。SiN晶体显微威氏硬度为2600~4000kg/mm2。故BN-SiN薄膜中的几种成分、结构,保证了所需的硬度,并可按所需耐磨程度改变微晶晶粒的数量、尺寸及分布。因BN-SiN薄膜中有非晶,有它们的网络,纤维状结构,可控制这一网络、纤维状结构,以保证薄膜有合适的韧性,通过控制薄膜中分散相的结构、结晶形式来调整硬度、应力和膨胀系数。由于BN-SiN薄膜中B、N易向金属(如Fe)中扩散,而金属原子(如Fe)又会向BN-SiN薄膜中扩散,故而存在双扩散层,其中有Fe-N键、Fe-B键、B-N键等等。这就较好地解决了附着力这一问题。

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