[发明专利]苯并二氮杂衍生物的制备方法无效
申请号: | 89104788.3 | 申请日: | 1989-07-06 |
公开(公告)号: | CN1041941A | 公开(公告)日: | 1990-05-09 |
发明(设计)人: | 佐藤良也;松尾照明 | 申请(专利权)人: | 藤沢药品工业株式会社 |
主分类号: | C07D403/12 | 分类号: | C07D403/12;C07D403/14;C07D401/14;//;24324;20942) |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 孟八一,林玉贞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二氮杂 衍生物 制备 方法 | ||
1、一种用于制备式(Ⅰ)化合物或其盐的方法,式(Ⅰ)为:
式中R1是卤素,
具有一个或多个适宜取代基的杂环基,
具有一个或多个适宜取代基的芳香基,
-NH-R5,式中R5是氢,低级烷酰基或羟基(低级)烷基,
-S-R6,式中R6是低级烷基,由羧基或氨基取代的低级烷基,由保护羧基和保护氨基取代的低级烷基,或吡啶基
-O-R7,式中R7是氢,羟基保护基,低级烷基,低级链烯基,芳(低级)烷基,卤代(低级)烷基,氨基(低级)烷基,保护的氨基(低级)烷基,或可带有低级烷基的哌嗪基(低级)烷基,
-CONH-R8,式中R8是氰基,氨甲酰(低级)烷基,羧基(低级)烷基,保护的羧基(低级)烷基,或由氨甲酰基或芳基,取代的低级烷基,
-Z-R9,式中R9是氢或低级烷基,和
(式中R10是羟基,低级烷氧基或氨基),
(式中R11是羧基或保护羧基,R12是氢;或者R11是卤素和R12是卤素),
R2是可带有一个或多个适宜取代基的芳基,
R3是氢或卤素;
R4是氢,卤素或低级烷氧基,和
A是低级亚烷基,
该方法的特征在于:
(1)式(Ⅱ)化合物或其盐与式(Ⅲ)化合物或其盐反应,得到式(Ⅰ)化合物或其盐,式(Ⅱ)为:
式中R2,R3和R4各自的定义如前所述,式(Ⅲ)为:X-A-R1(Ⅲ)
式中R1和A各自的定义如前所述,式(Ⅰ)为:
式中R1,R2,R3,R4和A各自的定义如前所述,
(2)式(Ⅳ)化合物或其氨基反应活性衍生物或其盐与式(Ⅴ)化合物或其羧基反应活性衍生物或其盐反应,得到式(Ⅰ)化合物或其盐,
式(Ⅳ)为:
式中R1,R2,R3和A各自的定义如前所述,式(Ⅴ)为
式中R4的定义如前所述,式(Ⅰ)为:
式中R1,R2,R3,R4和A各自的定义如前所述,或者
(3)使式(Ⅱ)化合物或其盐经亚胺基保护的消除反应,得到式(Ⅰm)化合物或其盐,式(Ⅱ)为:
式中R2,R3,R4和A各自的定义如前所述,
R14是氢或低级烷基,
R15是亚胺基保护基,
J是CH或N和
Q是CH或N,
式(Ⅰm)为:
式中R2,R3,R4,R14,A,J和Q各自的定义如前所述。
2、权利要求1所述方法,其中R1是可以带有一个或多个适宜取代基的杂环基。
3、权利要求2所述方法,其中R1是含2个或3个氮原子的不饱和5元单杂环,该杂环可以带有低级烷基和/或亚胺基保护基,R2是可带有卤原子的苯基。
4、权利要求3所述方法,其中R1是咪唑基,吡唑基或三唑基,它们各自可带有低级烷基和/或亚胺基保护基。
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