[发明专利]聚硅氮烷、其制备方法，以及将其用于陶瓷的先质制成所述的陶瓷

权利要求书

1、聚硅氮烷，其特征在于这种聚硅氮烷含有下列化学式的链节，

其中，至少有一个硅原子化合价与一个氮原子化合价确保链节之间的键合，以形成线性、分支或环性的链连接，其特征还在于至少有一部份硅有效化合价与氢原子和/或非饱和脂肪族的烃基相结合，硅和氮的剩余化合价可以与氢原子、非饱和脂肪族的烃基、烷基、环烷基、单环或多环的芳基、烷芳基或含有高达18个碳原子的芳烷基进行结合。

2、根据权利要求1所述的聚硅氮烷，其特征在于它们的分子量为200至50，000，最好为400至10，000。

3、根据权利要求1或2所述的聚硅氮烷，其特征在于当它们并不与H或非饱和脂肪族烃基相结合时，与硅和氮原子相结合的取代物是选自含1至8个碳原子的饱和脂肪族烃基，含3至7个碳原子的脂环基、苯基、苄基、乙苯基、甲苯基、二甲苯基或萘基。

4、制备权利要求1至3之一的聚硅氮烷的方法，其特征在使下面的化合物进行反应：

-至少一个其化学式为

的卤化硅烷

-和至少一个其化学式为

联氨进行反应，上面的化学式中，Y为卤原子，主要为氯原子，a为1至4之间的值，最好约为2，一个或多个硅和氮的自由化合价与氢原子、非饱和脂肪族烃基或化学式（Ⅰ）范围所示的其他基团进行结合。

5、根据权利要求4所述的方法，其特征在于卤化硅烷选自下面的一些产品

SiCl₄，（CH₃）₂SiCl₂，（CH₃）₃SiCl，CH₃SiCl₃，（C₆H₅）₂SiCl₂，（C₆H₅）（CH₃）SiCl₂，（C₆H₅）SiCl₃（CH₃）（CH₃CH₂）SiCl₂，H₂SiCl₂，（CH₃）₂HSiCl，HSiCl₃，CH₃（CH₂＝CH）SiCl₂，（CH₃）₂（CH₂＝CH）SiCl，（CH₃）HSiCl₂。

6、根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于联氨选自未取代的联氨（N₂H₄），甲基联氨、乙基联氨、苯流联氨、环己基联氨、二甲基联氨、二乙基联氨、二苯基联氨、二苄基联氨、α-萘基联氨、二异丙基联氨、二甲苯基联氨、二异丁基联氨、（二甲苯基）联氨、二（α-萘基）联氨。

7、根据权利要求4至6之一所述的方法，其特征在于大量使用联氨，例如使联氨的摩尔数大于硅原子的摩尔数和卤原子Y的摩尔数。

8、根据权利要求4至7之一所述的方法，其特征在于反应在有叔胺时进行。

9、根据权利要求8所述的方法，其特征在于联氨的克分子数高于硅原子的克分子数。

10、根据权利要求8或9所述的任一方法，其特征在于叔胺选自三乙基胺、三甲基胺、三苯基胺和吡啶。

11、根据权利要求1至3之一所述的聚硅氮烷，其特征在于它们为下面的成形制品：纤维、细丝、粉末、薄膜、薄层、片物、管状物、泡沫或编织或非编织制品或混合型物质。

12、陶瓷制品，其特征在于它们所含各元素的比例如下（以重量计）：

-30至70%的Si

-2至30%的N

-0至35%的C

-0至25%的O

而且这些制品通过对权利要求11的成形的聚硅氮烷进行热介反应获得。