[发明专利]防止聚合物结垢的方法无效
申请号: | 89106490.7 | 申请日: | 1989-08-18 |
公开(公告)号: | CN1040596A | 公开(公告)日: | 1990-03-21 |
发明(设计)人: | 清水敏秀;金子一郎;渡边斡雄 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C08F2/44 | 分类号: | C08F2/44 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 李若娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防止 聚合物 结垢 方法 | ||
1、一种在有乙烯基双键的单体聚合中可防止聚合物在聚合釜中结垢的方法,其中所述聚合反应是在聚合釜中进行,该聚合釜的内壁面已预先涂敷涂层溶液,然后干燥形成涂层,该涂层溶液的pH值大于7,并含有(A)和(B)组分,组分(A)为C.I.酸性黑1、C.I.酸性黑2、C.I.酸性黑124、C.I.直接蓝1、C.I.直接蓝6、C.I.直接蓝71、C.I.直接黑2、C.I.直接黑19、C.I.直接黑32、C.I.直接黑38、C.I.直接黑77、C.I.酸性蓝1、C.I.酸性蓝2、C.I.酸性蓝40、C.I.酸性蓝59、以及磺化产物的碱金属盐和铵盐中的至少一种化合物,而该磺化产物是由通式(I)的芳香胺化合物与通式(II)的芳香族硝基化合物的缩合物磺化制得,
其中,R1是氢原子、-NH2、-N=N-C6H5、-NH-C6H5或-NH-C6H4-NH2,R2是氢原子或-NH2,
其中:R3是氢原子或-NH2;
组分(B)为选自C.I.溶剂黑3、C.I.溶剂黑5、C.I.溶剂黑7、C.I.溶剂黑22、C.I.碱性黑2、C.I.碱性桔黄2、C.I.碱性桔黄14、C.I.溶剂蓝2、C.I.溶剂蓝11、C.I.溶剂蓝12、C.I.溶剂蓝25、C.I.溶剂蓝35和C.I.溶剂蓝36中的至少一种化合物。
2、按照权利要求1的方法,其中所述组份(A)是C.I.酸性黑1、C.I.酸性黑2、C.I.酸性黑124,或是所述磺化产物的碱金属盐或铵盐。
3、按照权利要求1或2的方法,其中所述组份(B)是C.I.溶剂黑3、C.I.溶剂黑5、C.I.溶剂黑7或C.I.溶剂黑22。
4、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述涂层溶液的pH值为8~11。
5、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述涂层溶液的pH值用乙二胺调节。
6、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述涂层溶液中,组份(A)与组份(B)的重量比为100/0.1~100/1000。
7、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述涂层溶液含有组份(A)和组份(B),总含量为0.01~5%重量。
8、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中除了聚合釜的内壁面外,预先用所述涂层溶液涂敷在聚合过程中会与单体接触的聚合釜的其它部件,然后干燥形成涂层。
9、按照权利要求8的方法,其中所述会与单体接触的部件选自搅拌轴、搅拌叶片、挡板、集管、测量线圈和冷凝器。
10、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述涂层溶液还可预先涂敷于会与未反应单体接触的回收系统的装置部件,然后干燥形成涂层。
11、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述形成的涂层量为0.001~5克/米2。
12、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述单体至少是一种选自乙烯基卤化物,乙烯基酯,丙烯酸和甲基丙烯酸或其酯或盐,马来酸或富马酸及其酯或酸酐,二烯单体,芳香族乙烯基化合物,丙烯酸酯,丙烯腈,卤代乙二烯,以及乙烯基醚。
13、按照前述权利要求中的任何一种方法,其中所述聚合反应是悬浮聚合、乳液聚合、溶液聚合或嵌段聚合。
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