[发明专利]用于显像管的鞍形偏转线圈及其制造方法无效

专利信息
申请号: 89108231.X 申请日: 1989-10-24
公开(公告)号: CN1026931C 公开(公告)日: 1994-12-07
发明(设计)人: 尼古拉斯·杰里特·温克;弗朗西斯卡斯·科尼利斯·阿德里安纳斯·雅;弗朗西斯卡斯·玛丽亚·皮特勒斯·派阿斯 申请(专利权)人: 菲利浦光灯制造公司
主分类号: H01J9/236 分类号: H01J9/236;H01J29/70
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 何耀煌,肖掬昌
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 显像管 偏转线圈 及其 制造 方法
【说明书】:

发明涉及连续地绕制用于显象管的、从后端朝前端向外张开的鞍形偏转线圈的方法,所述线圈的前端部有沿相对于纵轴的横方向延伸的凸缘形连接部,所述线圈的纵向各匝分成若干股,一股中的每一匝环绕前几股的各匝,而每一对相邻股在其一部分长度范围内至少被一个孔隙所分开,而该孔隙是这样构成的:在相邻两股中的前一股已绕完所要求匝数后、在所述线圈前端部、沿着该两股间的边界、在对称于纵轴的至少两个位置上将针插入绕线空间中,此后,环绕所述针缠绕第二股。本发明还涉及显象管的偏转装置,该装置包括至少两个相对于纵轴对称地环绕该装置并从后端朝前端向外张开的鞍形偏转线圈,每个线圈的前端带有相对于显象管轴在横向上延伸的凸缘形连接部,而在所述两偏转线圈之间,两纵向部分沿窗口两侧延伸。

上述方法通常用来绕制鞍形线圈。在该方法中,可以通过在设计时确定开口空间的位置以及绕制时选择每一段的匝数,来影响线圈的性能。在很多情形下,这提供了使所述线圈所产生的磁通分布适合于所提要求的可能性。然而,实验证明,这种可能性并不适合于所有情形,特别是在进行较精确的校正时。这样的校正是必须的,例如,当要降低一字排列式彩色显象管中的东西光栅误差时。

对使用电磁偏转部件的彩色显象管的性能提出了越来越严格的要求,尤其是它们用于监视器时。例如,提出了光栅形状方面的严格要求。

在常规的电视接收机或监视器中,光栅是通过使电子束扫描显象管的荧光屏而构成的。可能出现的(几何)光栅误差是南北光栅误差(在光栅的上部和下部的误差)和东西光栅误差(在光栅的左侧和右侧的误差)。在具有一字排列式电子枪的彩色显象管中,东西光栅误差明显地表现为显示屏上扫描光栅的左右边界的枕形或桶形失真。

本发明的目的是通过下述方式改进本文起始段中所述类型的方法,即,给予线圈设计者以额外的影响所产生的磁通分布的可能性。

为此,本发明的方法具有如下特征:至少将一对相对称的针在线圈前端以相对于凸缘形连接部平面的横方向插入绕线空间中,该方法还具有如下特征:至少将另一对相对称的针在线圈前端以相对于线圈的纵向各匝的平面的横方向插入绕线空间中。

本发明的方法对绕制场偏转线圈及行偏转线圈都是适用的。

在本发明的方法中,在把针以相对于线圈凸缘形连接部的平面的横方向插入绕线空间中所述前端附近位置的情况下,与把针以相对于各匝的纵向部分的平面的横方向插入所述前端附近位置的情况相比,在插针处线圈纵向部分与凸缘形连接部之间的过渡段处于不同的轴向位置(前者更接近前面)。由于在所述过渡段的更靠前的位置上局部地产生较强的偏转场分量,所以,产生了额外的场调制。这种场调制随所述过渡段的额外产生场分量的径向位置而定。这提供了这样一种可能性,例如,通过在绕制时有选择地使用针的定位方向,而使鞍形场偏转线圈在其前端附近的各匝具有这样的分布,以致一旦激磁时,产生特强的六极分量,以此降低东西光栅畸变。

对机器制造者来说,这意味着他可省去某些迄今为止一直需要的光栅校正磁体或光栅校正电路。

用本发明的方法制造的包括偏转装置的显象管的偏转线圈具有如下特征:各匝的纵向部分分成若干股,每个纵向股与前端凸缘形连接部之间的过渡段设计成线性面,所述线性面要么横断凸缘形连接部的平面,要么横断各匝纵向部分的平面。

根据本发明,包括使用两个这种偏转线圈的偏转装置的显象管的最佳实施例具有如下特征:安装所述偏转线圈,以便在激磁时产生垂直偏转场。

另一个最佳实施例的特征在于:至少两个相对于该装置的纵轴对称安装的鞍形线圈具有线性过渡面,所述过渡面横断凸缘形连接部的平面并位于相对于纵轴的大约30°的角度位置。

再一个最佳实施例的特征在于:至少两个相对于该装置的纵轴对称安装的鞍形线圈具有另一线性过渡面,这些过渡面横断各匝的纵向部分的平面并分别位于相对于纵轴大约为15°,40°,50°和60°的角度位置。

下面将参考附图更详细地描述本发明的一些实施例,附图中,

图1是包括偏转装置的显象管的一部分的纵剖面图;

图2是本发明的偏转线圈的透视立视图;

图3是本发明的偏转线圈的透视后视图;

图4是图3偏转线圈的剖面的图解后视图;

图5是本发明方法所用的绕线夹具的剖面。

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