[发明专利]在基板上涂敷标志特别是在风挡板周边及其邻近部位涂敷着色边框的方法及系统

权利要求书

1、在一块基板上涂敷标志的方法，其特征在于：

(a).以一种液态物质涂敷到包含需覆盖上述标志的精确表面在内的基板概略表面上，该物质受到予定的电磁辐照后，能凝固起来並粘附在基板上；

(b).使已涂敷物质的要覆盖上述标志的精确表面暴露在上述予定的电磁辐射中引起上述的涂敷物质凝固並且粘附在基板上；

(c).清除未暴露於上述电磁辐照的表面上的上述涂敷物质。

2、按权利要求1所述的方法，其特征在于，基板是风档板，而标志是风档板周边及其邻近部位的着色边框。

3、按权利要求1和2中任一项所述的方法，其特征在于，辐照暴露操作中所用的电磁波是紫外线，上述涂敷操作中所用的液态物质是一种经紫外线辐照后，能凝固並粘附在基板上的物质。

4、按权利要求1、2和3中任一项所述的方法，其特征在于所述的涂敷操作是用的喷涂法。

5、按权利要求4所述的方法，其特征在于，所述的喷涂操作是用一个喷头在基板的概略表面上喷涂，喷头是沿着标志的概略图形移动的。

6、按权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述的暴露操作是使电磁辐射通过一个掩模投射到涂敷物质上，该掩模只有在相应於覆盖上述标志的精确表面的部分才能让电磁辐射通过。

7、按权利要求6所述的方法，其特征在于暴露操作中所用的电磁辐射波是来自可见光源。

8、按权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于暴露操作中所用的电磁辐射波是来自激光。

9、按权利要求8所述的方法，其特征在于暴露操作的实施是使激光束沿标志的概略图形偏转照射。

10、按权利要求8所述的方法，其特征在于，暴露操作的实施是使激光束按相应於标志的概略图形的路径移动。

11、按权利要求1-10中任一项所述的方法，其特征在于，清除的操作包括向基板上喷射一种液体，这种液体是一种能溶解未经辐照暴露的涂敷物，但不能溶解已辐照暴露的涂敷物的溶剂及把未经辐照暴露的涂敷物清洗掉。

12、在一块基板上涂敷标志的系统，其特征在于：

（a）.涂敷设备，它用於在基板上包含要覆盖上述标志的精确表面在内的概略表面涂敷液态物质，该液态物质经予定的电磁辐射波照射后凝固並粘附在基板上;

（b）.暴露设备，它包括有一个产生上述予定的电磁辐射波的辐射源，它用於使已涂敷上物质的要覆盖上述标志的精确表面受上述辐照暴露引起上述涂敷物质凝固並粘附到基板上;

（c）.清除设备，它用来清除掉上述未受电磁辐照暴露部分的涂敷物质。

13、按权利要求12所述系统，其特征在于，基板是一块风档板，用上述涂敷设备涂敷的标志是风档板周边及其邻近部位的着色边框。

14、按权利要求13所述系统，其特征在于所述的涂敷设备包括有一个喷头。

15、按权利要求13或14中任一项所述系统，其特征在于：所述的涂敷设备还包括有使喷头沿标志图形移动的x向y向驱动装置。

16、按权利要求12-15中任一项所述系统，其特征在于，所述的涂敷设备进一步还包括一种把基板送往涂敷区的传输带;一个使基板在涂敷区精确定位的可移动调节的定位器及一个把基板在涂敷区夹紧固定的夹持器。

17、按权利要求12-16中任一项所述系统，其特征在于，所述的暴露设备包括有一个投射器，它用来使电磁波通过一个掩模映射到涂敷物质上，该掩模仅在相应於要覆盖有标志的精确表面的部分才能让电磁波通过。

18、按权利要求17所述系统，其特征在于，所述的暴露设备还包括一个内装有一组掩模的贮存盒及按照要在基板上涂敷的标志的外形轮廓挑选映射掩模的选片机。

19、按权利要求12-18中任一项所述系统，其特征在于，所述的暴露设备进一步还包括一种把基板送往暴露区的传送带，一个使基板在暴露区精确定位的可移动调节的定位器及一个把基板在暴露区夹紧固定的夹持器。

20、按权利要求12-19中任一项所述系统，其特征在于所述的电磁辐射源是紫外光源。