[发明专利]防光晕的荫罩框架

说明书

本发明涉及一种防光晕的荫罩框架，特别涉及一种在荫罩型彩色显像管中能防止因过扫描或过偏转的电子束的反射导致光晕的新型荫罩结构。

如图1所示，普通荫罩型彩色显像管结构是在屏盘11的面板的内表面上形成荧光屏12，用框架14支承的荫罩13安装在距荧光屏12有一预定间隙的位置处，电子枪(未绘出)发射的电子束借助荫罩13有选择的轰击到荧光屏12上，从而由荧光屏12发射的可见光形成预期的图像。

电子枪发射的电子束借助偏转装置，诸如，偏转线圈及其类似结构而偏转，从而使电子束落在荧光屏12的可视范围。然而所谓的过扫描电子束是因过偏转之后离开了有效区域而产生的，它们被从屏盘的侧面或框架张开部分的侧端反射，导致诱发二次荧光，由于亮度和色纯度恶化，使图像质量降低，而且产生所谓光晕现象，也就是“可见的电子溢流”。

一种克服这种现象的措施，是在屏盘11的侧面和框架14的外表面之间的空间安装一由薄金属板制成的电子屏蔽板15，作为防止从屏盘侧面反射的阻挡装置，而许多种装置中的一种被提供来克服来自框架14张开部分侧端的反射。

为更仔细叙述来自框架14张开部分侧端的电子束反射机构，此框架14通常厚度为1～2mm，因此，有效区域最外部区域的无效电子束，即有比最大偏转角还稍大的偏转角的无效过扫描电子束将入射到张开部分的侧端，而此反射电子束(图1中用虚线示出)扫描到荧光屏12上从而产生光晕。

为防止该光晕现象，广泛使用的常规方法是将电子屏蔽板15延伸到框架14张开部分的内边以限定有效区域的外部边界，而不是用框架限定。在这样情况下，其厚度远比框架薄(通常为0.2mm或更小)的电子屏蔽板15的导引端有较小的反射区域，因此它能有效地防止光晕。然而，借助如此薄厚度的电子屏蔽板15限定有效区域的外部边界，对其制造和装配的精度要求极高，加工难度很大，因而要降低制造成本就是非常困难的。

在这种情况下，为防止光晕，已建议了许多技术方案，试图用荫罩框架限定有效区域的外部边界，以及调整框架张开部分导引端的形状等。然而几乎这所有的技术方案都着眼于工艺结构，以使在框架张开部分侧端的无效电子束的反射区域减少。

例如，日本专利公开NO58-9539披露了这些技术方案中的一种，并示于图2中。此技术方案是在以上参照图1所述的普通荫罩型彩色显像管中，荫罩13的框架14’的张开部分的边缘弯向作为电子束源的电子枪，为最大限度地减少无效电子束的反射区域，弯曲部分的导向端加工成锐形芒刺19。

但是，将框架14’张开部分的导向端做成芒刺19的方法是当进行冲切工艺时，在凸模和凹模之间产生许多芒刺，所以，这些芒刺的形状是不一致的，这不仅不能很好地防止电晕，而且因为芒刺形成尖锐的刃，也使另件加工存在许多问题。

本发明旨在克服现有技术存在的缺点。

因此，本发明的任务是提供一种可防止光晕的荫罩框架，其防光晕效果是很好的，而且制造、安装、修整都很方便。

为完成上述任务，本发明的器件采用这样的结构，即通过设置在有效区域外部边界附近的反射面有效地控制无效电子束的反射方向，而不是像现有技术那样尽可能减少无效电子束的反射区域。

电子束精确地符合光线的入射角等于出射角的反射定律；但在电子束中与光线类似的运动是可以观察到的。例如，如果反射面设置在与无效电子束的入射方向相垂直的位置，则无效电子束将沿几乎与入射方向相同的方向反射。因此，有效区域附近的无效电子束的入射角可以精确地进行控制，该无效电子束由于从通过垂直于显像管轴的平面反射而导致光晕。

也就是说，如果所放置的反射面的倾角与最大的偏转角相同或者大体相同，则射入的无效电子束将沿与入射通道大体相同的通道反射，从而使因电子束在荧光屏上误轰击产生光晕的问题得到克服。(这里，假定从轴向观察，电子束通过偏转装置向显像管的外边偏转，希望反射通道形成在入射通道稍外边一点)。

按照本发明的基于上述原理的防光晕荫罩框架，其结构如下所述。所说的荫罩框架支承荫罩与位于屏盘内表面的荧光屏保持一预定的间隙，此框架还有一用以限定电子束有效区域的外部边界的张开部分。

其特征在于，环绕所说框架的所说张开部分的周边设置一相对于所说框架的平面成预定倾角的弯曲端部分，该弯曲是朝向所说的屏盘。

通过参照附图对本发明的优选实施例进行讨论，本发明的上述任务和其他优点将更加明显。

图1是普通荫罩型彩色显像管部分截面图；

图2是荫罩设置有普通防光晕装置的普通彩色显像管的部分截面图；

图3是按照本发明的彩色显像管的示意截面图；