[发明专利]高抗辐照氟化钡晶体的生长技术无效

专利信息
申请号: 90102828.2 申请日: 1990-03-31
公开(公告)号: CN1023240C 公开(公告)日: 1993-12-22
发明(设计)人: 沈定中;殷之文;苏伟堂;潘志雷 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B29/12 分类号: C30B29/12;C30B11/02
代理公司: 中国科学院上海专利事务所 代理人: 聂淑仪
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 辐照 氟化钡 晶体 生长 技术
【权利要求书】:

1、一种高抗辐照氟化钡(BaF2)闪烁晶体的生长技术,采用如下生长步骤:

(1)原料制备

(2)铂坩埚制作与生长炉准备

(3)晶体生长,按下列条件:

A.熔料:高出熔点约50℃,

B.温度梯度:20-30℃/mm

C.生长速率:0.8-1.6mm/小时

D.降温速率:20-30℃/小时

其特征在于:

(1)采用非真空的坩埚下降法

(2)采用以下生长技术:

A.原料制备:

a.用高纯钡盐和氢氟酸制备高纯BaF2原料,杂质含量达10-6级;

b.在140℃下脱水;

c.制备料锭:在氟塑料密封模具中,用静水压压制成锭。

B.铂坩埚制作与生长炉准备

a.铂金坩埚壁厚0.1-0.3mm;

b.氧气氛下降法生长炉,硅钼棒为发热元件;

c.炉底有辅助加热器。

C.晶体生长

装料:料锭装入铂坩埚后,充入惰性气体或含氟气体,焊封坩埚。

2、根据权利要求1和BaF2晶体生长技术,其特征在于所述的含氟气体是CF4,BF3,HF;惰性气体是氩气(Ar)。

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