[发明专利]用于连续补给熔料的系统

权利要求书

1、一种将固体硅粒送入用来生长空心管状结晶体设备的系统，该设备包括一个盛装硅熔体的坩埚，所说的坩埚有一个底壁，该系统包括：

用于贮存固体硅粒的贮料装置；

管道装置，它连到所说的贮料装置和穿过所说坩埚的底壁，以提供一条从所说的贮料装置到所说的坩埚的通路，沿着该通路将在所说的贮料装置中贮存的硅粒从所说的贮料装置输送到坩埚；以及给料装置，用以将所说的贮料装置中贮存的固体硅粒发送到所说的管道装置，并向所说的管道装置提供增压气流，以便借助于所说的增压气流使所说的管道装置中的硅粒遂入所说的坩埚中。

2、按照权利要求1所说的系统，其特征在于，所说的管道装置包括：

一个用以承受固体硅粒的收受室：

一个第一管道，它将所说贮料装置与所说收受室相连;以及

一个第二管道，它连到所说收受室并穿过所说坩埚的底壁而伸出。

3、按照权利要求2所说的系统，其特征在于，所说的收受室包括一径向向中心变细的底部和一个在所说的底部把所说的收受室与所说给料装置相连通并使所说增压气流在所说收受室底部进入的开口。

4、按照权利要求2所说的系统，其特征在于，所说贮料装置高于所说的收受室，且所说的第一管道从所说的贮料装置向下倾斜伸向所说的收受室。

5、按照权利要求2所说的系统，其特征在于，所说的第二管道具有一个顶端，所说的第二管道的尺寸是这样定的，使所说的第二管道可固定在所说的坩埚上，向上延伸穿过所说的坩埚的内部，使所说的第二管道的顶端位于所说坩埚盛装的熔融硅的表面之上。

6、按照权利要求1至5中任一项所说的系统，其特征在于，所说的给料装置包括用于对所说贮料装置加压的发送装置，利用加压气体促使所说的贮料装置中贮存的固体硅粒进入所说的管道装置中。

7、按照权利要求1至5中任一项所说的系统，其特征在于，所说的给料装置还包括与所说的贮料装置相连的振动装置，用以造成所说的贮料装置的振动，以便引起所说贮料装置中贮存的固体硅粒移进所说的管道装置。

8、按照权利要求1至5中任一项所说的系统，其特征在于，将所说管道装置在所说坩埚内设计并排布成使所说的通路到所说的坩埚中盛装的熔体表面之上的一选定的位置为止。

9、按照权利要求8所说的系统，其特征在于，所说的系统进一步包括转向装置，用以偏转输送到所选定位置上方的所说地方的硅粒，使所说的硅粒进入所说的熔体，以便将对所说的熔体的热冲击减至最小。

10、按照权利要求1至5中任一项所说的系统，其特征在于，所说的增压的气流是一种惰性气体的气流。

11、按照权利要求1至5中任一项所说的系统，其特征在于，所说的贮料装置包括一个具有底壁和内腔的罐，用于贮存所说的固体硅粒，所说的罐还包括一个将所说内腔同靠近与管道装置相连的所说的底壁的开口，提供由所述内腔至所述坩埚的通路。

12、按照权利要求5所说的系统，其特征在于，包括位于所说第二管道的所说顶端的转向装置，使所述加压气流所载硅粒通过所述第二管道的顶端后发生转向，使所述硅粒基本上均匀地分布在所述坩埚中熔体的表面上。

13、一种应用权利要求1的系统向生长着空心结晶体设备的坩埚中的硅熔体补给硅料的方法，该方法包括下列步骤：

（1）提供一台生长空心管状结晶体的设备，所说的设备包括一个坩埚和空心管，所说的坩埚具有一盛装硅熔体的内腔，所说的空心管具有一位于所说的坩埚之下的下端，其中部延伸穿过所说的坩埚的内腔，其顶端位于所说的坩埚中盛装的熔硅的顶面之上;

（2）提供一个权利要求1所述的系统，用来把固体、球状的硅珠补给在所说的坩埚中的熔体;

（3）将所说的管道装置的一端与所说的空心管的下端相连通;

（4）将预定直径的固体球状硅珠添加到所说的贮料装置中;

（5）在所说的管道装置中提供选定压力的增压气体流，喷向所说的管道装置的一端;

（6）将所说硅珠发放进入所说的管道装置;

（7）在所说增压气体流中携带所说硅珠，并把被所说的气流携带的硅珠运载进入并通过所说的空心管，而后将所说硅珠从所说的空心管的顶端喷出，让所说的硅珠落入所说的坩埚盛装的所说熔体中。