[发明专利]大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置

权利要求书

1、大面积紫外光刻(曝光)方法，其特征在于在曝光基片的整个范围内，使辐照不均匀度和曝光不均匀度成反向变化，实现二者的补偿，即采用偶数个光通道的光学积分器，其数目应与聚光镜形成的辐照分布相匹配，并且各并列光通道元素透镜口径不论为何种形状，其组合通光口径的形状，应与聚光镜形成的辐照分布的形状相同或类似。

2、根据权利要求1所述的大面积紫外光刻（曝光）方法，其特征在于采用能形成与光学积分器组合通光口径大小相关的辐照分布的高次非球面或者复合高次非球面聚光镜充分会聚光源发出的辐射能量。

3、大面积紫外光刻（曝光）装置，由聚光镜1、光源2、滤光片3、光学积分器4、曝光快门5和准直镜6组成，光学积分器4的入射端位于聚光镜1的第二参考面上，出射端位于准直透镜6的焦面上，其特征在于光学积分器4的光通道数目为与聚光镜形成的辐照分布相匹配的偶数，其组合通光口径最好采用正方形。

4、根据权利要求3所述的大面积紫外光刻（曝光）装置，其特征在于聚光镜1的面形采用复合高次非球面，光源2采用大功率球形紫外汞氙灯。

5、根据权利要求3或4所述的大面积紫外光刻（曝光）装置，其特征在于准直透镜6是薄形菲涅尔透镜。