[发明专利]能源系统无效
申请号: | 90108033.0 | 申请日: | 1990-09-28 |
公开(公告)号: | CN1052210A | 公开(公告)日: | 1991-06-12 |
发明(设计)人: | 雅克·朱莉恩·吉恩·都弗 | 申请(专利权)人: | 国际壳牌研究有限公司 |
主分类号: | G21B1/00 | 分类号: | G21B1/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 能源 系统 | ||
本发明涉及能源系统以及产生能量的方法。
特别是本发明提供了一种从金属氢化物类型的点阵系统中回收能量的方法。一百多年来,对金属中,尤其是钯中的氢的奇特性质进行着研究。也研究着钯中氘的存在及其性质。已经知道,大量以离子形态存在的氢和/或氘可以掺合到诸如钯这样的金属中去。形成一种金属氢化物类型的点阵系统。
虽然从科学观点上来说这样的系统是十分令人感兴趣的,但由于该系统看来是吸收能量而不是放出能量,故它们没有引起人们的实际兴趣。设计和操作一种以能够供应能量的氢同位素和金属为依据建立的系统将是非常有意义的。
因而,本发明的一个目的是提供由至少填注有一种氢同位素粒子的系统所驱动的能量供应过程。
本发明的另一个目的是提供一种备有可控的启动设施、关闭设施和重启动设施的能量供应系统。
本发明还有一个目的是,提供一种操作条件易于修改的、可操作的能源系统。
本发明再有一个目的是提供一种适合于与工作系统耦合的能源系统。
此外,这也是本发明的一个目的:设计和开发一种能与现存功率循环器组成一体的能源系统。
从而本发明提供了一种产生能量的方法,该方法包括:
把至少一种氢同位素填入到基体中去,该基体至少有一部分含有至少一种能形成金属氢化物型点阵系统的金属,
把已填注的基体作为电路中一电容器件的一个传导元件的至少一部分,该电容器件的另一个传导元件与一可控的外电压源装置相连,
对此电压源进行操作,并且
通过对此电压源的操作,回收在该基体内产生的能量。
在本发明的一有效实施例中,基体的填注是通过把该基体安排成运行电路中的一电极器件并把该基体暴露于上述同位素中而进行的。
在本发明的另一有效实施例中,通过把该基体置于含有至少一种氢同位素的压缩气体的压力容器内、并暴露于该气体中来进行基体的填注。
根据本发明另一个有效实施例,基体的填注是通过把该基体安排成电化学系统中的一电极器件,并把该基体暴露于该电化学系统的离子中而进行的。
按照本发明的上述方法,该基体最好是暴露于放电所生成的同位素的(粒子)流中,并由热交换设施将产生的能量回收。
本发明还提供一种能源系统,它包括:
基体,该基体至少一部分包含着至少一种能够形成金属氢化物型点阵系统的金属,且至少是一电容器件中一传导元件的一部分,另一传导元件连向外部可控的电压源装置,该电容器件和电压电源构成了一电路。
用以提供至少一种引入所述基体的氢同位素的供应装置,以及回收在该基体内所产生的能量的回收装置。
该系统能够方便地与一工作机可靠且可控地耦合,与功率循环器构成一体。
在根据本发明的该系统的一有效实施例中,基体是放电电路中的电极器件,此电路还包含着上述供应装置,其中的电极器件乃是电容器件的一个传导元件。该系统还包含一位于基体与电源之间的屏蔽装置,可以调节同位素进入基体的情况。
在本发明的该系统另一有效实施例中,基体安排在一压力容器内,供应装置还包含一压力设备用来对含有同位素的气体加压。
在根据本发明的该系统的另一实施例中,基体是安排在电化学系统中的电极器件,后者充当提供同位素离子的供应装置。
现在,通过举例并参照附图来说明本发明的进一步细节。
图1A和图1B示意说明了本发明的原理。
图2给出按照本发明的能源系统的一有效实施例。
在揭示本发明特点和进一步细节之前,这里参照图1A和1B简要叙述一下某些静电原理。
图1A示出了例如是在一电容器件中的金属/电介质的分界面。所示的图可认为是横截面。水平轴上用的是距离参量r,在该界面处r=O(r=O处的垂直缘表示该分界面)。
在图1B中表示出该同一分界面,水平轴为如上所示的距离r,垂直轴为电场强度E。
详细地说,在图1A中,r=0右方的斜线部分表示电容器件的传导元件,用数码1代表;而在r=0左方用数码2代表的是电介质。
在图1B中,E随r的变化图表示充电电容的情况。由基础物理可知,金属中的电场为零,而在电介质中、诸如平板电容器中的电场则为常数值。为了将电压参考点规范成接地参考点以及对电荷差进行规范,此电场值E以其模值|E|表示。以上所述的恒电场值则以E。表示。
如前文所述,基体可以用电学方法、机械方法或者电化学方法进方填注。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际壳牌研究有限公司,未经国际壳牌研究有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/90108033.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。