[发明专利]阴极射线管中内磁屏蔽罩和荫罩框架的安装装置无效

专利信息
申请号: 90108373.9 申请日: 1990-09-06
公开(公告)号: CN1027407C 公开(公告)日: 1995-01-11
发明(设计)人: 金世锁;李度钦 申请(专利权)人: 三星电管株式会社
主分类号: H01J29/02 分类号: H01J29/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曹济洪,肖掬昌
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阴极射线管 中内磁 屏蔽 框架 安装 装置
【说明书】:

本发明涉及一种阴极射线管中内磁屏蔽罩和荫罩框架的安装装置,特别是涉及这种装置的改进,通过改进,可以使内磁屏蔽罩和荫罩框架的装配操作快速进行。

一般,内磁屏蔽罩是用于防止阴极射线管内的电子束受外部静磁场的影响,因此,把金属板制成的内磁屏蔽罩安置在位于其后面的荫罩框架上。

在将上述屏蔽罩固定在框架上的公知安装方法中,有一种是点焊法。但这种点焊方法是不经济的,因为除了要消耗较多的电能外,还要求有昂贵的电焊机及高技能的操作者。

此外,其它的缺点是点焊过程中焊接火花会溅出,这种火花会导致荫罩小孔被堵塞。

为了解决上述问题,曾提出过附图中图1所示的安装方法,该方法为日本专利公开62-13787号所披露。这种方法包括多个夹子3,夹子3插入分别相互对应地设在内磁屏蔽罩I‘和框架F‘的每个边缘上的孔4和4‘中,因此,为安装屏蔽罩I‘和框架F‘,夹子3起到紧固装置之作用。尽管这种使用夹子的方法与上述点焊方法相比有所改善,然而夹子要单独制做,这就增加了工时费用和生产成本。

所以,本发明的目的是要提供一种内磁屏蔽罩和荫罩框架的安装装置,利用该装置,无需任何辅助紧固装置,屏蔽罩就可简单地连接到框架上。

为实现上述目的,本发明提供了一种内磁屏蔽罩和荫罩框架的安装装置,该装置包括以同样间隔伸出于框架周缘表面的夹紧构件,用于夹紧和保持屏蔽罩;以及,多个与夹紧构件相应地设置于屏蔽罩周缘上的平直部分,用于有弹性地装到夹紧构件上。

在一个优选实施例中,夹紧构件包括向内弯向框架中心部分的“┐”形脚。

在另一个优选实施例中,夹紧构件包括向内外弯向框架外侧的“┐”形脚。

如上所述,本发明的内磁屏蔽罩和荫罩框架的安装装置在框架本体上设有夹紧构件,因此,无需任何辅助紧固装置就可把屏蔽罩连接到框架上。

通过以下描述并参照附图,本发明的另外的目的和优点能很好地得到理解。其中,

图1为显示传统的内磁屏蔽罩和荫罩框架安装装置的分解透视图;

图2是显示本发明的内磁屏蔽罩和荫罩框架安装装置的透视图;

图3是图2所示的装置的局部放大剖视图;

图4与图3相应,它是显示本发明的另一个实施例的局部放大剖视图;

图5是显示本发明的再一个实施例的局部放大的平面图。

下面参照附图,描述本发明的优选实施例。

图2和3显示阴极射线管中内磁屏蔽罩I和荫罩框架F的安装装置的优选实施例,该装置包括多个“┐”形脚1,这些脚1从框架F周缘表面以相同的间隔整体地伸出,在屏蔽罩I的周缘上设有多个平直部分2,以便与脚1互相齐平啮合(flush    engagement)。

就是说,“┐”形脚1整体上分别从通常矩形截面所含的长边和短边的每个中部伸出,即,从框架F周缘表面1a伸出,以使每个脚1向内朝着框架F中央弯曲,与每个脚1相对应,平直部分2设置在屏蔽罩I的周缘。

另一方面,在把屏蔽罩I连接到框架F时,轻轻向内推压屏蔽罩I,使一对平直部分2相向移动,然后松开,以便通过屏蔽罩I的弹性力,使平直部分2有阻尼地插进脚1,从而把二个元件组合成一体。

图4是显示本发明的另一个实施例的剖视图。上述“┐”形脚向外朝框架外侧弯曲,在把屏蔽罩I连接到框架F时,使屏蔽罩I轻轻向外偏移,然后松开,借助屏蔽罩I的弹性力,使平直部分2有阻尼地插进脚1。

图5表示本发明的再一个实施例的框架F周缘表面1a的局部放大图。在该实施例中,通过切开框架F周缘表面,并相应做出开口,来形成“┐”形脚1,并且扩展的切除部分1b沿着开口的边缘形成,以便使扩展切除部分1b离开“┐”形脚1的边缘。

因此,在内磁屏蔽罩I的平直部分2与框架F的“┐”形脚1啮合情况下,分别邻近平直部分2的顶面和底面的“┐”形脚1的上部周缘和扩展切除部分1b边缘是不重合的。使得内磁屏蔽罩I和框架F之间的啮合更紧密。

如上所述,根据本发明,由于阴极射线管的内磁屏蔽罩和荫罩框架安装装置自身设有夹紧构件,这样就无需任何附加紧固装置,因而显著地减小了所要求的零件数量,降低了生产成本。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电管株式会社,未经三星电管株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/90108373.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top