[发明专利]各向异性腐蚀硅片的改进方法与硅片腐蚀溶液

权利要求书

1、一种腐蚀硅的方法，其特征在于，所述的硅与腐蚀溶液接触，其腐蚀溶液含有4-6摩尔%的在苯环上至少有两个相邻的羟基和一个极性官能团的芳族化合物、39-56摩尔%的胺和57-38摩尔%的水。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述的极性官能团是COOH。

3、根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述的芳族化合物是棓酸。

4、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的胺选自于由具有2-4碳原子的二胺与链烷醇胺组成的组，链烷醇胺中每个链烷醇基含2-3碳原子。

5、根据权利要求4所述的方法，其特征在于所述的胺是单乙醇胺。

6、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述的腐蚀溶液还包含吡嗪或派啶。

7、根据权利要求1所述的方法，其特征在于将过氧化氢加到所述的腐蚀溶液中。

8、根据权利要求1所述的方法，其特征在于将表面活性剂加到所述的腐蚀溶液中。

9、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述腐蚀溶液的温度为115-125℃，pH为11-12。

10、根据权利要求1的方法，其特征在于所述芳族化合物进一步具有一COOH团;以及所述胺选自于由具有2-4碳原子的二胺与其中每个链烷醇基含2-3碳原子的链烷醇胺组成的组。

11、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述的芳族化合物是棓酸，所述的胺是单乙醇胺。

12、根据权利要求11所述的方法，其特征在于所述腐蚀溶液的温度为115-125℃，pH为11-12。

13、根据权利要求12所述的方法，其特征在于所述的腐蚀溶液还含有吡嗪或吡啶。

14、根据权利要求13所述的方法，其特征在于将过氧化氢加到所述的腐蚀溶液中。

15、根据权利要求14所述的方法，其特征在于将一种表面活性剂加入到所述的腐蚀溶液中。

16、一种硅的腐蚀溶液，其特征在于，它含有4-6摩尔%的在苯环上具有至少两个相邻的羟基和一个极性官能团的芳族化合物39-56摩尔%的胺和57-38摩尔%的水。

17、根据权利要求16所述的腐蚀溶液，其特征在于所述的极性官能团是COOH。

18、根据权利要求17所述的腐蚀溶液，其特征在于所述的芳族化合物是棓酸。

19、根据权利要求16所述的腐蚀溶液，其特征在于，所述的胺选自于由具有2-4碳原子的二胺与链烷醇胺组成的组，其链烷醇胺中的每个链烷醇基含2-3碳原子。

20、根据权利要求19所述的腐蚀溶液，其特征在于所述的胺是单乙醇胺。

21、根据权利要求16所述的腐蚀溶液，其特征在于它还包含吡嗪或哌啶。

22、根据权利要求16所述的腐蚀溶液，其特征在于它还包含一种表面活性剂。

23、根据权利要求16的腐蚀溶液，其特征在于所述芳族化合物还进一步具有COOH组，和所述胺选自于由具有2-4碳原子的二胺和其中每个链烷醇基含2-3碳原子的链烷醇胺组成的组。

24、根据权利要求23所述的腐蚀溶液，其特征在于所述的芳族化合物是棓酸，所述胺是单乙醇胺。

25、根据权利要求24所述的腐蚀溶液，其特征在于它还含吡嗪或哌啶。

26、根据权利要求25所述的腐蚀溶液，其特征在于它还含有一种表面活性剂。