[发明专利]光敏元件和光电成象设备以及用其成象的方法无效
申请号: | 90109099.9 | 申请日: | 1990-11-13 |
公开(公告)号: | CN1037998C | 公开(公告)日: | 1998-04-08 |
发明(设计)人: | 吉原淑之 | 申请(专利权)人: | 佳能公司 |
主分类号: | G03G5/026 | 分类号: | G03G5/026;G03G15/04;G03G13/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光敏 元件 光电 成象 设备 以及 方法 | ||
本发明涉及光电成像的光敏元件、光电成像设备以及用其成像的方法。更具体地说,本发明涉及一种能提供高质量图象、无图象缺陷如灰雾和黑斑的光电成像的光敏元件、光电成像设备以及用光敏元件成像的方法。
近年来,人们对光电成像打印机,如激光束打印机、LED打印机和LCD打印机等作为计算机、字码处理机和传真机的输出装置的需求日益提高。
从不同角度看,如材料选择范围、耐久性、电位稳定性、光敏性和响应特性等,目前这类打印机和那些使用有机光导体的机器所用的光电成像的光敏元件中,有许多是基本上采月所谓功能分离型结构,这种结构包括含产生电荷物质的电荷产生层和含输送电荷物质的电荷迁移层。
在这类光电成像打印机、特别是数字式打印机中。输出图象多数是利用反向方式进行的,在此情况下,静电(潜像)图象也是按照反转显影方式显像的。在反转显影中,静电潜像的暗部分提供了显像的白色背景区,这样便涉及一个问题,即因由基材载流子注入电压降以微斑形式往往以显著的图象缺陷出现。如白色背景中的光雾或黑斑等。
为了防止灰雾和黑斑一类的缺陷,以前代表性地采取了以下措施:
(1)在基材和电荷产生层之间安置一层能防止载流子注入的底涂层。
(2)使用一种载流子迁移度很低的电荷迁移物质。
(3)鉴于在高湿度环境下,电荷产生层或底涂层的电阻值可能会降低以加速载流子注入,故利用加热器加热光敏元件。
但是,上述措施中没有一种效果充分,而且还有某些付作用。
另一方面,在许多情况下,已采用半导体激光作为光电成像打印机和数字复制机的光源,另外,含氧钛酞菁染料作为电荷产生物质已引起注意,因为它在780-800nm附近(即半导体激光发射波长)具有很高的感光度。含氧钛酞菁不仅具有很高的感光度,而且还具有优异的光电成像特性,由此,适用作光电成像打印机和数字复制机的光敏元件。尽管如此,即使用含氧钛酞菁,也难以防止在白色背景中出现的上述灰雾。这种灰雾缺陷明显损害了图象质量,因此仍需对其加以解决。
本发明的一个目的是提供一种解决了上述问题且能提供在反转显影法中无灰雾的高质量的光电成像的光敏元件,一种装有该光敏元件的光电成像设备,和用该光敏元件成像的方法。
按照本发明,提供了一种用于装有充电装置和反转显影装置的光电成像设备的光电成像的光敏元件,它以下述顺序包括:一个导电支撑体、一层电荷产生层和一层电荷迁移层,其中电荷产生层包含含氧钛酞菁(oxytitanium phthalocyanine)且电荷迁移层的厚度为22微米或以上。
按照本发明的另一方面,提供了一种光电成像设备,它包括:
一种光电成像光敏元件、充电装置和反转显影装置,其中所述充电装置是一种提供给光敏元件表面600V或以下的暗部分电位(以绝对值表示)的装置;光敏元件顺序包括一个导电支撑体、电荷产生层和电荷迁移层;电荷产生层包含含氧钛酞菁,且电荷迁移层的厚度为22微米或更高。
按照本发明的又一方面,提供一种成像方法,该方法包括:
给光电成像光敏元件充电以提供600V或以下的暗部分电位(以绝对值表示);所述光电成像的光敏元件按顺序包括导电支撑体、电荷产生层和电荷迁移层;电荷产生层包含含氧钛酞菁且电荷迁移层的厚度为22微米或更高;
在光电成像的光敏元件的表面上形成静电潜像;以及
反转显影由此形成的静电潜像。
在以下结合附图研究了本发明的优选方案说明之后将更清楚地了解到本发明的这些和其它目的,特点和优点。
图1是按以下合成例2制得的含氧钛酞菁的X-射线衍射图。
图2说明了装有本发明光电成像的光敏元件的光电成像设备。
图3是使用本发明的光电成像设备作为打印机的传真机的方块图。
在本发明的光电成像的光敏元件中,电荷迁移层的厚度要比传统用的大,这是很重要的。其原因不一定很清楚,但也许是当提供给光敏元件某一表面电位时,厚的电荷迁移层可能比薄的电荷迁移层提供较小的电场强度,从而抑制了上述来自基材的注入电荷。另一原因可能是,如果光敏元件具有厚的电荷迁移层,在载流子到达光敏元件之前(即载流子迁移距离很高)可以完成显影步骤。
在本发明中,电荷迁移层可具有22微米或以上的厚度,最好是25微米或以上。
该厚度的上限可在提供所需感光度的范围内适当调节。考虑到涂覆膜的均匀性,电荷迁移层可具有50微米或以下的厚度,特别是35微米或以下。
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