[发明专利]光敏材料

权利要求书

1、一种光敏材料，它包括载有光敏涂层的支持体，所述的光敏涂层含有：

(a)一种聚合物，它含有可用酸降解的交联键，其数量为按聚合物重量计至少约1%重量，以及：

(b)一种光敏组份，它在对光化辐射曝光后可产生酸。

2、权利要求1所述的光敏材料，其特征在于干链聚合物是一种热塑性聚合物，它选自下述物质组成的一组化合物：丙烯酸或甲基丙烯酸酯聚合物或共聚物，马来酸酐与乙烯基单体的共聚物，含氯的乙烯基聚合物或共聚物，聚苯乙烯和聚苯乙烯共聚物，乙烯和乙烯共聚物，合成橡胶和聚醚。

3、权利要求2所述的光敏材料，其特征在于干链聚合物是丙烯酸或甲基丙烯酸和它们的酯所形成的聚合物

4、权利要求2或3所述的光敏材料，其特征在于可用酸降解的交联键含有选自下述物质中的一个基团：酸性酯，碳酸酯，乙醛缩二乙醇及酮缩醇。

5、权利要求4所述的光敏材料，其特征在于可用酸降解的交联键是羧酸酯。

6、权利要求5所述的光敏材料，其特征在于羧酸酯是空间受阻的二醇的二丙烯酸酯或二甲基丙烯酸酯。

7、权利要求1所述的光敏材料，其特征在于可用酸降解的交联键含有一酸性酯或碳酸酯基团。

8、权利要求7所述的光敏材料，其特征在于至少一部分可用酸降解的交联键是空间受阻的羧酸酯基团。

9、权利要求7所述的光敏材料，其特征在于聚合物有由丙烯酸聚合物组成的聚合物干链。

10、权利要求1所述的光敏材料，其特征在于存在有效量的可用酸降解的交联键，以使在对光化辐射曝光后降低聚合物的Tg值大约20-25℃。

11、权利要求10所述的光敏材料，其特征在于聚合物含有按重量计大约1%到35%的可用酸降解的交联键的单体单元。

12、权利要求11所述的光敏材料适合于用调色剂颗粒来显影，并且含有大约15%-25%可用酸降解的交联键的单体单元。

13、权利要求11所述的光敏材料适合于用作光刻胶，并且含有大约1%-20%可用酸降解的交联键的单体单元。

14、权利要求1或4所述的光敏材料，其特征在于光敏组份含有鎓盐，它选自卤鎓盐，第五主族元素的鎓盐，第六主族元素的鎓盐，并具有阴离子BF^{-₄或MF-₆，这里M选自P，As和Sb。}

15、权利要求14所述的光敏材料，其特征在于光敏组份含有三苯基锍六氟锑酸盐。

16、权利要求14所述的光敏材料，其特征在于光敏组份含有二苯基碘鎓六氟锑酸盐。

17、一种形成负性影像的方法，包括下列步骤：

（a）在基底上形成一光敏涂层，它含有带有可用酸降解的交联键的聚合物以及一种对光化辐射曝光后可产生酸的光敏组份，

（b）将光敏涂层对光化辐射进行影像曝光，以及

（c）施加颗粒性材料，它可选择性地粘附到光敏涂层的曝光区域上。

18、权利要求17所述的方法，它包括在（b）步骤之后，（c）步骤之前，在大约50℃到大约120℃的温度范围内加热已曝光的光敏涂层的步骤。

19、权利要求17或18所述的方法，其特征在于可用酸降解的交联键含有选自下述一组的官能团：碳酸酯基团和酯基团。

20、权利要求17或18所述的方法，其特征在于可用酸降解的交联键含有受阻的酯基团。

21、权利要求17或18所述的方法，其特征在于聚合物有由丙烯酸聚合物组成的聚合物干链。

22、权利要求17或18所述的方法，其特征在于光敏化合物组份含有一种鎓盐，它选自卤鎓盐，第五主族元素的鎓盐，第六主族元素的鎓盐，并含有BF^{-₄或MF-₆阴离子，其中M选自P，As和Sb。}

23、权利要求22所述的方法，其特征在于光敏组份含有三苯基锍六氟锑酸盐。