[发明专利]用于包装的隔离材料

权利要求书

1、一种具有优良隔离性能的结构，包括：

a、一层聚合基层，和

b、在二氧化硅透明涂层中至少掺入一种金属，该金属从下面一组金属中选出，即：锑、铝、铬、钴、铜、铟、铁、铅、锰、锡、钛、钨、锌、锆、所述涂层和包含在所述涂层中的金属掺杂物的量所提供的透过所述涂覆结构的透氧率最多约为5毫升/米²、日、大气压。

2、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，所述金属掺杂物的量适于提供所述透明涂层的透氧值最多约为3000×10^-6毫升/日、米²、大气压。

3、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，所述透明涂层的厚度约为20-500毫微米。

4、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，在二氧化硅透明涂层中掺入一种金属，该金属从下面一组金属中选出：铜、铬、锰、锡、锌。

5、按照权利要求4所述的结构，其特征在于，所述金属是铜。

6、按照权利要求4所述的结构，其特征在于，所述金属是锡。

7、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，所述掺杂物金属的量足够的少，所述透明涂层的光学密度使在550毫微米厚时的光透射度至少为70%。

8、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，按单质金属计算的掺杂金属量约是透明涂层重量的0.5-30%左右。

9、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，聚合基层具有光滑的表面，其粗糙度的平均高度小于50毫微米左右。

10、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，所述聚合基层是聚脂或酰胺膜。

11、按照权利要求10所述的结构，其特征在于，所述的聚脂是聚对苯二甲酸乙脂。

12、按照权利要求1所述的结构，其特征在于，SiO层处在所述聚合基层和所述二氧化硅涂层之间。

13、一种具有优良隔离性能的结构，包括：

a、一层聚合基层，和

b、掺入硼酸锂的二氧化硅透明层，其掺入量适于提供透过该涂层结构的透氧率最多为5毫升/日·米²·大气压左右。

14、使聚合基层具有隔离性能的方法，包括下述步骤：

a、选择聚合基层;和

b、把一层透明涂层直接或间接地真空沉积于所述聚合基层上，所述透明基层由二氧化硅和至少一种金属而制成，这种金属从下面金属组中选出，即锑、铝、铬、钴、铜、铟、铁、铅、锰、锡、钛、钨、锌和锆，其特征在于所述透明涂层的量和其中所含的金属量适于提供的透氧率最多为5毫升/日·米²·大气压左右。

15、一种多层结构包括一层聚酯或酰胺聚合基层，一层真空沉积到所述基层上的厚为10-75毫微米的SiO层，和一层真空沉积于所述SiO层上的至少为20毫微米厚的SiO₂层。

16、按照权利要求15所述的多层结构，其特征在于所述SiO₂层中的氧与硅的原子比为0.6∶1至1.4∶1。

17、按照权利要求15所述的多层结构，其特征在于所述SiO₂层含有有效的掺杂物量，以改善所述多层结构的蒸馏隔离性能。

18、按照权利要求17所述的多层结构，其特征在于所述的掺杂物选自下面一组金属中的一种金属材料，即钛、锆、锌、铝、铟、铅、钨、铜、锡、铬、铁、锰、锑、钴、钡和镁，及其混合物，且其在所述SiO₂层中的含量是该层总重的0.5%-30%左右。

19、按照权利要求15所述的多层结构，其透氧率小于7毫升/米²、日、大气压。

20、按照权利要求19所述的多层结构，其特征在于所述的透氧率是蒸馏前或蒸馏后的。

21、按照权利要求15所述的多层结构是一种薄膜形式。

22、按照权利要求15的多层结构是容器形的。