[发明专利]四层膜系镀膜玻璃无效
申请号: | 91104213.X | 申请日: | 1991-06-17 |
公开(公告)号: | CN1032745C | 公开(公告)日: | 1996-09-11 |
发明(设计)人: | 李东 | 申请(专利权)人: | 深圳伟兴镀膜玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
代理公司: | 深圳睿智专利事务所 | 代理人: | 陈鸿荫 |
地址: | 518067 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 四层膜系 镀膜 玻璃 | ||
本发明涉及平板玻璃制品,特别是涉及表面经镀膜处理的建筑用平板玻璃制品。
现有技术中,建筑用平板玻璃镀膜制品,就其产生热反射和彩色性能的机理来看,多是采用二层膜系或三层膜系结构,见图1和图2,膜系构成为:基片1、金属膜2、金属化合物膜3;或基片4、金属化合物膜5、金属膜6、金属化合物膜7。其中,金属包括:镍铬钢、银、铝、铜、钛、铬等,金属化合物包括:氧化钛、氧化锡、氧化铬、不锈钢氧化物等。上述膜系结构的特点主要是利用金属的反射率高和金属化合物膜的干涉效应,但从热反射能力和色饱和度方面来看比较差。
二层膜系的热反射彩色阳光控制膜镀膜玻璃,一般是在着色玻璃基片上镀膜,利用着色玻离对自然光的吸收特性以获得色彩。膜性能为反射镜面膜。由于着色玻璃对光谱有大量吸收,所以对红外线的反射能力差,光学性能不理想,且制品生产的灵活性差。
三层膜系的热反射彩色阳光控制膜镀膜玻璃,一般是在透明玻璃基片上镀膜,利用薄膜干涉原理获得色彩。但由于金属反射膜前有一层为产生反射色彩而设置的干涉膜,降低了玻璃面红外线的反射能力;而且,由于在两个反射界面反射的干涉光束的光强(振幅)有相当大的差别,造成玻璃面反射色饱和度低;再者,对于不同厚度的基片,由于对自然光的吸收不同,玻璃面的反射色还存在着可分辨的色差。
日本「公开特许公报」昭63-112441(JP63,112,441)公开了一种“透明热线反射板”的产品,其膜层结构为:|玻璃|氧化锡或氧化钛|金属钛|氧化锡或氧化钛|;日本「公开特许公报」昭01-188446(JP01,188,445)公开了一种“热反射玻璃”的产品,其膜层结构为:|玻璃|金属氧化物|金属|金属氧化物|;联邦德国专利DE3413587公开了一种“用磁控反应溅射进行热反射镀膜玻璃的氧化锡干涉膜的沉积”的方法,其膜层结构为:|玻璃|氧化锡|金属银|氧化锡|;联邦德国专利DE3807600开了一种“低反射和热隔绝的透明镀膜”的产品结构,其膜层结构为:|玻璃|金属化合物|金属|金属化合物|;欧洲专利EP185314公开了一种“具有干涉色的建筑玻璃镀膜”的产品,其膜层结构为:|玻璃|不锈钢氧化物|金属银|不锈钢|;联邦德国专利DE 3941045公开了其膜层结构为|玻璃|锡铟氧化物或氮化铝|银或铜|锌|锡铟氧化物或氮化铝|的热反射玻璃;美国专利US 4900630公开了其膜层结构为:|玻璃|氧化钛或氧化铬|氮化钛|钛或铬|氧化钛|的镀膜玻璃;日本专利JP 63-242948公开了其膜层结构为;|玻璃|铬或不锈钢|氮化钛|氧化钛|的太阳反射玻璃。
上述现有技术产品的共同缺点是:玻璃面反射色的饱和度低,透射率的调整整会导致反射色的饱和度的大幅变化。
本发明的目的在于:为改善上述现有技术中的不足之处,而提供一种不仅具有优良的热反射性能,而且具有较高的玻璃面反射色饱和度,并且透射率在较大范围调整而不影响其反射色饱和度的四层膜系镀膜玻璃,该镀膜玻璃主要用作建筑物的幕墙玻璃和窗玻璃。
本发明的目的可以通过以下措施来达到:利用金属或金属氮化物的高反射性能和高吸收性能、金属氧化物的高折射性能和不同的吸收性能,以及运用金属、金属氮化物膜与金属氧化物膜综合作用所产生的干涉效应,制作具有高的红外反射率和高的色饱和度的四层膜系阳光控制膜镀膜玻璃。它包括基片,以及金属、金属化合物的多层镀膜;其紧挨玻璃基片的一个面的第一层镀膜是金属、金属氮化物膜包括:铝、铜、铬、钛、镍铬合金、氮化钛、氮化铬、镍铬合金氮化物、镍铬钢、镍铬钢氮化物;在该第一层镀膜上有第二层镀膜金属化合物镀膜包括:氧化锌、氧化锡、氧化钛、锡合金氧化物;在所述第二层镀膜上,又有第三层金属、金属氮化物膜包括铝、铜、铬、钛、镍铬合金、氮化钛、氮化铬、镍铬合金氮化物、镍铬钢、镍铬钢氮化物;在该第三层镀膜上,还有第四层氧化物、氮化物镀膜包括:氧化钛、氧化锡、氧化铬、氮化钛、氮化铬、氮化铬、氮氧化钛、锡合金氧化物。
所述各层镀膜中的金属元素可以相同、部分相同、也可不相同。
附图的图面说明如下:
图1为现有技术二层膜系镀膜玻璃横断面;
图2为现有技术三层膜系镀膜玻璃横断面;
图3为本发明的四层膜系镀膜玻璃横断面;
图4是基片垂直置于真空室中,相对于各溅射阴极靶运动的示意图;
图5是基片水平置于真空室中,相对于各溅射阴极靶运动的示意图。
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