[发明专利]一种坚固耐磨强力永磁吸盘及吸盘台面制造方法无效
申请号: | 91104376.4 | 申请日: | 1991-07-05 |
公开(公告)号: | CN1022175C | 公开(公告)日: | 1993-09-22 |
发明(设计)人: | 刘春煊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | B23Q3/15 | 分类号: | B23Q3/15 |
代理公司: | 中国科学院专利事务所 | 代理人: | 王凤华 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 坚固 耐磨 强力 永磁 吸盘 台面 制造 方法 | ||
本发明涉及一种磁吸盘,特别是一种坚固耐磨强力永磁吸盘的新结构及其磁吸盘台面部件的制造方法。
已知的这类永磁吸盘,结构主要包括台面,底座,磁体及使磁体移动的传动机构和操作部件。
一般情况下,台面放在框架式的底座上面,磁体放在台面下面的框架底座的里面,采用偏心轮或凸轮传动机构使磁体及隔磁层整体移动,以实现台面通磁或断磁功能。
这种磁吸盘由于采用整体移动磁体或导磁体,来实现台面通磁和断磁,这样造成移动部件尺寸大,移动磨擦力也大,使操作笨重。且吸盘磁体或导磁体移动,主要采用偏心轮或凸轮传动机构,传力小,且使用寿命低。
现有吸盘台面磁极之间的隔磁材料均采用同一种材料,铜或铝来使软磁磁极相连,整体结构强度较低,且不耐磨。
现有吸盘台面的制造方法,常规法采用钎焊来使软磁磁极与隔磁材料相连。申请号89100337.1的发明专利申请案提出了模铸法,其性能虽较前者优,但需制造专用模具,费用仍较高。
本发明的目的在于提供一种坚固,耐磨且操作省力的吸盘新结构及台面制造方法,以克服上述诸缺点。
这种坚固、耐磨强力永磁吸盘,由台面、底座,磁体及使磁体移动的传动机构和操作部件组成,台面由软磁磁极(1),耐磨性能好的隔磁材料构成的隔磁层(2)组成,本发明特征在于台面还包括呈一定规格尺寸长方体强度高的隔磁块(3),软磁磁极(1)和隔磁层(2)相互间隔固定在隔磁块(3)上;底座(4)的表面上有一个或多个导轨槽,每个导轨槽内滑动装配有滑动磁座(10),固定磁块(6)和内隔磁块(7)相间固定在底座(4)的表面上,滑动磁块(8)和内隔磁块(9)相间固定在滑动磁座(10)的表面上,磁块(6)、(8)、内隔磁块(7)、(9)上表面处在同一水平面上;整体台面(16)固定在底座(4)侧面上;使部分磁体移动的传动机构和操作部件由齿条(11)、齿轮(12),传动轴(13),操作手柄(14)组成,每个滑动磁座(10)下底面上装有齿条(11),齿条(11)与固定在底座(4)二侧面轴承座内的传动轴(13)上装有的相应的齿轮(12)相啮合,传动轴(13)连有操作手柄(14);其吸盘台面的制造方法是先将隔磁块(3)和数个软磁磁极(1)用电焊或亚弧焊或其他机械连结方法,使之形成坚固的整体钢框架结构,然后再将耐磨的熔点低的非磁性材料直接浇铸到固定在高强度的隔磁块(3)的表面上的软磁磁极(1)之间形成的空腔内,形成耐磨的隔磁层(2),从而构成由高强度隔磁层(3)、软磁磁极(1)和耐磨隔磁层(2)组成的磁盘整体台面(16)。
下面结合附图详细描述本发明:
附图1为本发明的整体结构示意图。
附图2为台面结构示意图;
附图3为通磁状态下的磁体分布状态;
附图4为断磁状态下的磁体分布状态。
其中:(1)-软磁磁极 (2)-耐磨隔磁层
(3)-隔磁块 (4)-底座
(5)-内隔磁条 (6)-固定磁块
(7)-内隔磁块 (8)-滑动磁块
(9)-内隔磁块 (10)-滑动磁座
(11)-齿条 (12)-齿轮
(13)-传动轴 (14)-手柄
(15)-侧压板 (16)-整体台面
由附图1本吸盘的整体结构示意图知,本发明所提供的吸盘主要由台面、底座、磁体、及使部分磁体移动的传动机构及操作部件组成。
图1中底座(4)可为一整体铸铁件,底座(4)上表面有一个或多个导轨槽,滑动磁座(10)在导轨槽内滑动,固定磁块(6)和间隔磁块(7)相间排列固定在底座(4)的上表面上,滑动磁块(8)和内隔磁块(9)同样相间排列固定在滑动磁座(10)的上表面上,它们之间就构成如图3所示分布状态。磁块(6)、(8)、内隔磁块(7)、(9)上表面均处在同一水平面内。整体台面(16)通过侧压板(15)被固定在底座(4)侧面上;使部分磁体移动的传动机构和操作部件由齿条(11),齿轮(12),传动轴(13),操作手柄(14)组成,齿条(11)固定在滑动磁座(10)的下底面上,固定在传动轴(13)上的齿轮(12)与齿条(11)相啮合,传动轴(13)可固定在底座(4)两侧面轴承座内,手柄(14)与传动轴(13)相连结。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电工研究所,未经中国科学院电工研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/91104376.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在整个矿中传送数据的方法
- 下一篇:越程转钎及反弹吸振综合装置