[发明专利]凹雕光纤面板的制备无效
申请号: | 91104733.6 | 申请日: | 1991-07-18 |
公开(公告)号: | CN1068676A | 公开(公告)日: | 1993-02-03 |
发明(设计)人: | 文宛生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | H01J9/20 | 分类号: | H01J9/20;C03C25/06 |
代理公司: | 中国科学院专利事务所 | 代理人: | 戎志敏 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光纤 面板 制备 | ||
本发明属于光学。
在像增强器中,图像质量可以用一综合指数-调制传递函数(MTF)来表示。一支管子的MTF等于组成它的组件的MTF的乘积,即:
F管=f光阴级·f电子光学·f荧光屏,三者中荧光屏的MTF大大低于前面二者,所以整管的成像质量一直不够理想。为了改变这种状况,提出用凹雕金属化荧光屏代替玻璃基底荧光屏,见J.R.Piedman and H.K.Pollehn Proc,S.P.I.E95,155,1976.
本发明的目的是用腐蚀的方法在普通光纤面板上制出凹雕光纤面板。
本发明的主要特点是由亲电性腐蚀液、助剂和去离水为腐蚀液,所说的助剂是:
Na2O2为8‰~20‰
H2O2为20‰~80‰
亲电性腐蚀液为30‰~70‰
其余为去离水,所说的亲电性腐蚀液温度为0℃~100℃。
本发明方法简单,可以在普通光纤面板上腐蚀出理想的凹雕屏,对光纤面板没有特殊要求,可以广泛用于生产中。
附图是凹雕光纤面板荧光屏结构图,图中1为光纤的皮玻璃,2为芯玻璃,3为加了荧光材料的凹雕坑,4为高反射亲数金属膜,5为铝膜,6为电子束。
下面结合附图论述发明的原理。由附图知。它是将普通光纤面板入射面上的每根单丝的芯玻璃用腐蚀办法去掉一部分,形成一个个小凹坑;坑的侧壁涂上一层高反射系数金属膜;第三步再将荧光粉粒子均匀密实地填入每个小凹坑,最后,再在上面蒸上一层铝膜。这样的小坑,相当于一个小暗室,当坑中的荧光粉粒子发光时,光线只能通过坑底的光导纤维传出,其它三面都不透光,这样,就大大地减少了光扩散,从而提高了荧光屏的MTF。在理论上,凹雕/金属化荧光屏的MTF等于或接近光纤面板本身固有的MTF。
本发明用的腐蚀法,腐蚀要求:(1)腐蚀液应当有选择的腐蚀光纤面板芯玻璃而不腐蚀皮玻璃;(2)腐蚀后的小坑均匀一致,表面光滑,透过率基本保持原样;(3)腐蚀后的小坑最好是平底,即坑壁垂直坑底;(4)小坑深度应满足做屏要求。
本发明所用的选择性腐蚀液是亲电性腐蚀液、助剂和去离水。
亲电性腐蚀液:如盐酸,硫酸等等以及它们的混合液。
助剂:Na2O2(过氧化钠)、H2O2(过氧化氢)。
其中Na2O2为8‰~20‰,H2O2为20‰~80‰。
亲电性腐蚀液或它们的混合液占3‰-70‰
其余为去离水。
选择性腐蚀液的温度:0℃以上,沸点以下。
腐蚀条件:被腐蚀样品与腐蚀液要有相对运动。
本发明一个实例如下:
1、选板、涂保护层:将普通光纤面板(单丝直径6μm),板厚1mm,进行清洗,涂蜡待用。
2、配选择性腐蚀液
HCl 53g‰
Na2O210g‰
H2O220g‰其余为去离子水。
3、将选择性腐蚀液放在电磁搅拌器上,然后把放有待腐蚀光纤面板的小篮置于选择性腐蚀液中悬挂腐蚀,光面朝上,蜡面朝下。
4、腐蚀液温度20℃。
5、腐蚀深度:连续腐蚀1小时腐蚀坑深约为1.3μm
连续腐蚀3小时腐蚀坑深约为4μm
6、腐蚀后清洗凹雕光纤面板-去蜡-再清洗。
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