[发明专利]自释釉低温陶瓷的制造方法无效
| 申请号： | 91106831.7 | 申请日： | 1991-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN1028017C | 公开（公告）日： | 1995-03-29 |
| 发明（设计）人： | 杨子初;陈海波;谢晓静;冯波 | 申请（专利权）人： | 湖南省陶瓷研究所 |
| 主分类号： | C04B33/24 | 分类号： | C04B33/24 |
| 代理公司： | 湖南省专利服务中心 | 代理人： | 罗建民 |
| 地址： | 41220*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低温 陶瓷 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种自释釉低温陶瓷的制造方法，包括配料、球磨、成型、烧成，其特征在于所用的原料配比(重量百分比)为：高岭土10-25%、硅灰石30-35%、石英40-50%、钾长石4-10%，球磨后各种原料的颗粒级配为：整体细度大于30微米的颗粒＜5%、小于15微米的颗粒＞60%，小于5微米的颗粒＜10%，烧成温度1220-1300℃。
2、根据权利要求1所述的自释釉低温陶瓷的制造方法，其特征在于原料配比中还有0-2%的滑石、0-5%的膨润土。
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