[发明专利]噻吩并咪唑衍生物及其制备方法及用途

权利要求书

1、一种分子式如下的化合物或其盐类，

式中，环A是噻吩环，它除了含R³基外，还可任意含有取代基；R¹是氢或可通过一个杂原子相连结的任意取代的烃基；R²和R³各为能形成阴离子的基团或容易往阴离子转化的基团；X是亚苯基和苯基间的直接键或主链原子为2个或少于2个的间隔基；n为1或2的整数。

2、权利要求1的化合物，其中烃基为任意取代的烷基，链烯基，链炔基，环烷基，芳基，或芳烷基。

3、权利要求1的化合物，其中烃基为烷基，链烯基，链炔基，或环烷基，它们可以用羟基，任意取代的氨基，卤素，或低级（C_1-4）烷氧基加以取代。

4、权利要求1的化合物，其中R¹为低级（C_1-5）烷基或低级（C_2-5）链烯基，它们可以任意用羟基，氨基，卤素或低级（C_1-4）烷氧基取代，並可通过一个杂原子键合。

5、权利要求3的化合物，其中烷基为含1～约8个碳原子的低级烷基，它们可以是直链烷基，也可以是支链烷基。

6、权利要求5的化合物，其中低级烷基为未取代烷基或用羟基，任意取代的氨基，卤素或低级（C_1-4）烷氧基所取代的烷基。

7、权利要求1的化合物，其中R¹为含2～约8个碳原子的低级烷基，它们可以是直链的，也可是支链的。

8、权利要求3的化合物，其中芳基为苯基，它可以用卤素，硝基，低级（C_1-4）烷氧基或低级（C_1-4）烷基所取代。

9、权利要求2的化合物，其中芳烷基为苯基-低级（C_1-4）烷基，它们可以用卤素，硝基，低级（C_1-4）烷氧基，或低级（C_1-4）烷基加以取代。

10、权利要求1的化合物，其中杂原子为-O-，-S（O）m-（式中m为0，1，或2）或-N（R⁵）-（式中R⁵为氢或任意取代的低级（C_1-4）烷基）。

11、权利要求1的化合物，其中R²和R³各为羧基，四唑基，三氟甲磺酰胺，磷酸，磺酸，氰基，或低级（C_1-4）烷酯基，它们可以用任意取代的低级烷基或酰基保护。

12、权利要求1的化合物，其中R²和R³各为任意用任意取代的低级烷基或酰基保护的四唑基，任意用任意取代的低级烷基或酰基保护的羧基，或三氟甲磺酰胺。

13、权利要求1的化合物，其中R²为四唑基。

14、权利要求1的化合物，其中R³是式-CO-D′的基团，式中D′是羟基，任意取代的氨基或任意取代的烷氧基。

15、权利要求1的化合物，其中R¹是式-CO-D′的基团，式中D′是羟基或任意取代的烷氧基。