[发明专利]用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统无效
申请号: | 91110769.X | 申请日: | 1991-11-11 |
公开(公告)号: | CN1072273A | 公开(公告)日: | 1993-05-19 |
发明(设计)人: | 沈冠群;吴宾初;蔡康泽;曹沛其;黄宣邵;陈垦 | 申请(专利权)人: | 上海市激光技术研究所 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02B5/18 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 20023*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制作 圆光 栅码盘 逐点光 刻划 方法 及其 系统 | ||
1、一种用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法,其特征在于包括下列步骤:
使待刻划码盘匀速旋转;
产生与待刻划码盘角位置锁定且与该待刻划码盘要求的编码图形相应的编码信号;
产生受所述编码信号控制的、直径为微米级或亚微米级的刻划光斑;
使刻划光斑会聚于待刻划码盘的待刻划区域并使所述刻划光斑在所述待刻划码盘旋转过程中沿该码盘径向直线进给,从而形成平面螺旋线的刻划轨迹。
2、如权利要求1所述的逐点光刻划方法,其特征在于,所述待刻划码盘每旋转一周,所述刻划光斑沿该码盘径向进给距离为刻划光斑直径的四分之一至四分之三。
3、一种用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划系统,其特征在于包括:用于使待刻划码盘匀速旋转的回转台装置(2);用于产生与所述待刻划码盘角位置锁定且与待刻划码盘要求的编码图形相应的编码信号产生装置(4);受所述编码信号控制、用于在所述码盘的待刻划区域形成直径为微米级或亚微米级光斑的刻划光斑产生装置(1);用于在回转台旋转过程中,使所述刻划光斑产生装置(1)的刻划光斑和回转台装置(2)在回转台径向作相对移动的径向直线进给装置(3)。
4、如权利要求3所述的光刻划系统,其特征在于所述的回转台装置(2)包括:待刻划码盘设置在其上的回转台(16)和稳速控制环路,所述稳速控制环路由安装在所述回转台主轴上的高精度的标准光栅码盘(15)和多光学头读出处理器(29)组成的光栅发讯单元(30)、及速度鉴相电路(18)、功率放大电路(19)、回转电机(21)、晶体谐振器(20)所构成;所述的编码信号产生装置(4)包括:数字频率合成电路(27)和节拍编码电路(28);所述的刻划光斑产生装置(1)包括:激光器(5),光调制器(6)、光扩束器(7)、聚焦物镜(8)和调焦伺服环路(10);所述的径向直线进给装置(3)包括:工作台(26),减速机构和驱动电机(25)。
5、如权利要求3或4所述的光刻划系统,其特征在于,所述的回转台装置每旋转一周,径向直线进给装置使刻划光斑在回转台径向移动约为四分之一至四分之三光斑直径的距离。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备