[发明专利]低砷纯锑的制备方法无效

专利信息
申请号: 91110963.3 申请日: 1991-12-03
公开(公告)号: CN1072963A 公开(公告)日: 1993-06-09
发明(设计)人: 曲宪臣;郝文林;贺正常;许奎章;杨纪元;曾甦 申请(专利权)人: 沈阳市中兴冶金实用技术研究所
主分类号: C22B30/02 分类号: C22B30/02
代理公司: 沈阳市专利事务所 代理人: 王欣
地址: 110032 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 低砷纯锑 制备 方法
【说明书】:

发明涉及一种金属锑的制备方法,特别是一种低砷纯锑的制备方法。

近年来,日本、英国、澳大利亚、南朝鲜等国,在国际市场上寻求一种新型的金属锑产品,要求锑的主品位为99.99%以上,其中砷杂质必须低于10ppm,硫的含量必须低于2ppm,而且价格必须合适。这一要求,对目前锑工业是一个难题。现有锑工业生产工艺中有一些降低砷、硫的方法,如熔盐电解精炼阴极法、加复合熔剂电炉精炼法和加铝熔炼除砷法等,然而这些方法,将锑中砷、硫降低的极限程度也只能分别降至100ppm、20ppm,均高出要求的10倍,同时,这些种工艺方法生产出的金属锑的品位最高也只能达到99.98%,由此可见,上述金属锑的制备方法均不能满足国外用户的要求。

如果单纯考虑将锑中的砷、硫分别降至10ppm、2ppm以下,可以采用一种生产高纯锑的方法,即溴化精馏、氢气还原工艺,经过这一工艺,锑的主品位可达99.999%以上,砷、硫杂质可降至1-2ppm以下,然而经此工艺,加工费用比国外用户所能接受的价格高出10倍以上,且产量低,无法满足工业化生产的要求。

鉴于上述情况,本发明的目的在于提供一种加工费用低、回收率高,且可使锑的主品位达99.995%以上,砷、硫杂质可降至10-2ppm的低砷纯锑的制备方法。

本发明的目的是这样实现的:将原料锑放入石墨坩埚中,加入占原料重15-20%的碳酸钠,电炉加热,温度控制在900-950℃,充分搅拌后,将温度降至750-800℃,静置,将碱渣扒出,铸锭,此时,硫的含量可降至2ppm,砷的含量亦可降至100ppm以下,然后将经前工序的锑锭在由钢管炉、石墨坩埚、加热电炉及钼片套筒构成的真空蒸馏设备中进行真空蒸馏,即将锑锭放入石墨坩埚中,在石墨坩埚上放一筛盘,该筛盘上放相当锑锭料重千分之三到千分之七的紫铜丝,使锑中砷在蒸馏挥发时与筛盘上的铜反应,产生砷化铜,从而将锑中砷分离出去,蒸馏出来的锑冷凝在钼片套筒上,并从其上取下,以此获得低砷纯锑。

本发明的优点是:加工费用低,是目前生产高纯锑方法的1/10,回收率可达87%,而且锑的主品位可达99.99-99.998%,砷杂质可降至10ppm以下,硫杂质可降至2ppm,完全可满足国外用户的要求。

本发明的具体细节由如下实施例给出:

图1是本发明中真空蒸馏设备的结构示意图。

本发明的具体加工方法是:将原料锑放入石墨坩埚中,加入占原料重15%的碳酸钠,电炉加热,温度控制在900℃,充分搅拌3-4小时后将温度降至750℃,静置40分钟,将碱渣扒出、铸锭,取样分析硫与砷,此时,硫的含量为2ppm以下,砷的含量为100ppm以下,然后用真空蒸馏设备(见图1)进行真空蒸馏,该设备由石墨坩埚5、加热电炉7、钢管炉1、钼片套筒2及筛盘4、8构成,钢管炉1的底部置于加热电炉7中,石墨坩埚5置于钢管炉1的底部,石墨坩埚5上放置由上下两个筛盘4、8夹持的钼片套筒2,图中序号9为钢管炉抽真空口。在进行真空蒸馏时,将经高温精炼除硫降砷后的锑锭料6放入石墨坩埚5中,在该埚上的筛盘4上放置相当锑锭料重千分之五的紫铜丝3,在将钢管炉1抽真空达5×10-3-1×10-4毫米汞高时,加热电炉7通电加热,当坩埚中温度达到780-810℃(最好在780℃)、令其恒温1.5-2.5小时,蒸馏挥发时与筛盘4上的紫铜丝3反应,生成砷化铜,从而将锑中砷降至10ppm以下,其锑的纯度可达99.995%以上。

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