[发明专利]形成光稳定的全息图的方法无效
申请号: | 92101819.3 | 申请日: | 1989-01-14 |
公开(公告)号: | CN1067319A | 公开(公告)日: | 1992-12-23 |
发明(设计)人: | 布鲁斯·马尔科姆·门罗;威廉·卡尔·斯马瑟斯 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | G03H1/04 | 分类号: | G03H1/04;G03C1/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 于燕生 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 稳定 全息图 方法 | ||
1、一种在基片表面的光聚合层上形成光稳定的全息图的方法,它包括(任意次序):
(A)用载有全息图信息的经调制的光化辐射使一种光聚合元件曝光,此元件包括一片状支持体和可剥离地粘附在它上面的光聚合层,该光聚合层包括:
(a)一种溶剂可熔的热塑性聚合材料,
(b)至少一种能起加成聚合反应并且具有高于100℃的沸点的液态含烯不饱和单体,
(c)一种可由光化辐射致活的光引发剂体系,
其中此材料的折射率调制值至少为0.005,它的测定是由空间频率约为1000线/毫米的透射光栅用632.8nm辐射而测得的,此透射光栅是用层状的上述材料层经过全息照相制成的,其中载有全息图信息的经调制的光化辐射的形成是由一束相干光化辐射的参比光束与另一束同样的经影像调制的相干光化辐射的相互作用造成的,其中交汇平面就是光聚合层的平面;
(B)将光聚合层表面铺到基片表面上;然后
(C)从曝光过的光聚合物层上除去片材支持体。
2、根据权利要求1的方法,其特征在于重复步骤A、B和C一次和多次以形成多层全息照相记录。
3、根据权利要求1的方法,其特征在于参比光束和影像调制光束从光聚合层的同一侧射入,形成透射全息图。
4、根据权利要求1的方法,其特征在于参比光束从光聚合物层的一侧进入,而影像调制光束从光聚合层的另一侧进入,形成反射全息图。
5、根据权利要求1的方法,其特征在于基片平面是反射面。
6、一种在光聚合元件上制成光稳定的反射全息图的一步工序的方法,此元件包括(A)一种对光化辐射透明的支持片材和(B)一层粘附到支持片材上的光聚合的、基本上处于固态的材料;其中此材料包括
(a)一种溶剂可溶的热塑性聚合物材料;
(b)至少一种能起加成聚合反应并且沸点大于100℃的液态含烯不饱和单体;
(c)一种可由光化辐射致活的光引发剂体系,
其中此材料的折射率调制值至少为0.005,它的测定是由空间频率约为1000线/毫米的透射光栅用632.8nm照射而测得的,此透射光栅是用层状的上述材料经过全息照相制成的,此方法包括将光聚合元件在载有全息信息的调制过的光化辐射下曝光,其中调制过的光化辐射的形成是由一束相干光化辐射的参比光束与另一束同样的经影像调制的相干光化辐射的光束,在光聚合层平面处交汇而造成的,其中参比光束从光聚合层的一侧射入,而被调制的影像从光聚合层的另一侧射入。
7、根据权利要求6的方法,其特征在于影像调制光束的形成是由参比光束的相干辐射,穿过光聚合元件而照到物体上,接着产生了影像调制光束,从背面穿过光聚合元件,并与参比光束同轴。
8、根据权利要求6的方法,其特征在于物体是一张反射全息图。
9、根据权利要求6的方法,其特征在于液态单体含有一个或多个苯基、苯氧基、萘基、萘氧基或含有三个或更少的芳环的芳香杂环基或氯或溴原子,而聚合物材料基本不含有上述基团或原子。
10、根据权利要求6的方法,其特征在于聚合物材料含有一个或几个苯基、苯氧基、萘基、萘氧基或含有三个或更少的芳环的芳香杂环基或氯或溴原子,而液态单体基本不含有上述基团或原子。
11、根据权利要求6的方法,其特征在于液态单体是一种带取代基的或不带取代基的苯氧基烷基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;一种带取代基或不带取代基的苯酚基乙氧化丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;或一种带取代基或不带取代基的苯基烷基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;2-(1-萘氧基)乙基丙烯酸酯;双酚A的二(2-丙烯酰氧基乙基)醚,或乙氧化的双酚A二丙烯酸酯;其中溶剂可溶的热塑性聚合物材料是乙酸丁酸纤维素、聚丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或共聚物;聚乙烯缩丁醛、缩乙醛或缩甲醛或共聚物、或聚乙酸乙烯酯或共聚物。
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