[发明专利]光谱分析方法和系统无效
申请号: | 92102131.3 | 申请日: | 1992-03-21 |
公开(公告)号: | CN1077288C | 公开(公告)日: | 2002-01-02 |
发明(设计)人: | 福井勲;今村直树;深山隆男 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N21/67 | 分类号: | G01N21/67;G01N21/63;G01J3/36 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 竹民 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光谱分析 方法 系统 | ||
1.一种光谱分析方法,其特征在于,它包括下列步骤:
多次激励一个样品,以形成辐射;
在每次辐射中,测定所述样品的组分元素和非组分元素的谱线的光强度数据;
存储测到的该谱线的光强度数据;
根据存储的所述数据,认定含有预定含量以上的所述组分元素和非组分元素的辐射;
确定在样品上对应于上述被认定的辐射的区域中存在组分元素和非组分元素的复合物。
2.如权利要求1所述的光谱分析方法,其特征在于,上述认定步骤包括依据谱线的光强度数据计算各元素含量,并认定处于该含量水平的辐射的步骤。
3.如权利要求2所述的光谱分析方法,其特征在于,所述预定含量根据每次辐射中元素含量的平均值和漂移值而选定。
4.如权利要求1所述的光谱分析方法,其特征在于,所述激励步骤包括使所述样品放电的步骤。
5.如权利要求1所述的光谱分析方法,其特征在于,所述激励步骤包括一个利用激光的步骤。
6.一种如权利要求1所述方法使用的光谱分析系统,它包括:
用于激励样品使之产生辐射的激励装置;
用于对所述样品的辐射进行光谱分析的光谱分析装置;
由所述光谱分析装置就每次辐射作所述光谱分析时,检测谱线的光强度的检测装置;
用于存储谱线光强度数据的存储装置;
其特征在于,它还包括:
用于根据谱线光强度数据,认定所述样品中组分元素和非组分元素的含量在预定含量以上的辐射的认定装置,所述认定装置包括依据光强度数据计算各元素含量并认定在该含量水平以上的辐射的装置,所述预定含量根据每次辐射中各含量的平均值和漂移值而选定;和
用于确定在所述样品上对应于所述认定辐射的区域中存在组分元素和非组分元素的复合物的判定装置。
7.如权利要求6所述的光谱分析系统,其特征在于,所述激励装置包括使所述样品放电的装置。
8.如权利要求6所述的光谱分析系统,其特征在于,所述激励装置包括一激光束。
9.如权利要求8所述的光谱分析系统,其特征在于,还包括响应所述判定装置的判断,用于制备一两维图像的制备装置;响应所述制备装置,用于显示所述两维图像的显示装置。
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