[发明专利]阳图予涂感光版无损伤优质再生法无效

专利信息
申请号: 92102886.5 申请日: 1992-04-17
公开(公告)号: CN1034532C 公开(公告)日: 1997-04-09
发明(设计)人: 朱军 申请(专利权)人: 朱军
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 116013 辽宁省大*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 阳图予涂 感光 损伤 优质 再生
【说明书】:

本发明涉及一种感光印刷版的再生技术。

在1989年8月2日发明专利公报上公开了一种《阳图子涂感光版无损伤快速再生法》其主要内容是:擦拭表面涂有浓酸的旧PS版,待图纹消失后在其上施加浮石粉,经水冼、中和、封孔处理及干燥后再涂感光液,其不足之处是:以无定型硅酸盐为主要成分的浮石粉仅能吸附酸处理后版面污物中的水分,以便于污物从版面上清洗掉,但是它不能将酸处理后版面上的污物吸附掉,如残存的小分子油墨、颜料可在下面的水洗过程中再度逸出会污染版面。该发明又采用碳酸钠水溶液中和版面上残存的硫酸,其不仅作用单一而且还会使铝版基产生锈蚀作用,另外用来将版基上干燥油墨炭化以及使铝版基表面生成保护膜的浓硫酸需具备一定的浓度,但是为保证这一定的浓度需经常更换浓硫酸,而低于要求浓度的废旧浓硫酸则是一些难以处理的废液。

鉴于上述现有技术中的不足之处本发明的目的在于提供一种在快速除去旧印版上的油墨及感光膜后砂目中无残留物版面光洁美观又不锈蚀铝版基的PS版无损伤再生法。

本发明的目的可通过以下措施来实现:

一种阳图子涂感光版无损伤优质再生法,它是在旧PS版上涂有浓硫酸随后擦拭表面的图纹,待图纹消失后在其上施加吸附剂,经水冼、中和酸、碱、封孔处理和干燥后再涂感光液,其特征在于:吸附剂为活性白土。酸中和剂为常温除油水基清洗剂1~4%的水溶液。浓硫酸含发烟硫酸。

本发明主要是在PS版的再生过程中采用能同时将污物和水分一起吸附的吸附剂和除中和残存的酸外还能清除砂目中残留物并防止版面锈蚀的清洗剂以及能保持硫酸浓度的发烟硫酸。

本发明的方法简要流程如下:

涂浓硫酸→擦拭→施加活性白土→水洗→中和余酸并除污→水洗→封孔→水洗→中和余碱→水洗→干燥→涂感光液→备用。

本发明的方法首先是根据旧PS版面大小及图纹部分的多寡在版面上均匀地涂上20~50ml浓度为95~100%的浓硫酸,其最好是含发烟硫酸。当浓硫酸在PS版再生过程中浓度降低时,发烟硫酸中游离的SO3则可不断地与水作用以补充所消耗的硫酸,维持其浓度在100%。这样既保证了浓硫酸的强氧化作用,也减少了更换下来的废酸。当PS版涂过上述浓硫酸之后随之便对图纹部分进行擦拭,不超过2分钟图纹全部消失。此时存在于PS版面上的物质为硫酸、油墨、颜料和感光膜的混合物,处理上述既有亲油性又有亲水性的物质是采用活性白土。它是一种硅铝酸盐,其分子式为H2Al2(SiO3)4·nH2O,该无定形白色粉末状活性白土具有良好的物理和化学活性,它不仅具有吸附版面上污物中水分的性能,而且还具有将胶体物质氧化聚合继而吸附掉的脱色去污性能,它使旧PS版表面及砂目中的污物得以彻底清除,尤其是经浓硫酸炭化后变成小分子的油墨成分被活性白土充分吸附脱色后排除了该油性分子在下一步水洗中再度逸出并污染版面的可能。经活性白土处理过的版面在清除印版上用过的活性白土后既洁净又美观。将经上述吸附处理的印版在用水冲洗之后再用常温除油水基清洗剂的水溶液对版面上残存的酸和污物进行中和和除污处理。该除油水基清洗剂为含有表面活性剂、助洗剂和缓蚀剂等多种组分的结晶体,其1~4%水溶液的碱性与3%碳酸钠水溶液的碱性相以,因此完全可以中和版面上残余的酸,同时该清洗剂的其它组分又能清冼掉版面上所有的残存物,因而不仅使版面光洁美观而且还具有良好的防锈抗蚀性能。经上述中和除污处理的版面再经水洗使版面呈中性后进行封孔处理,之后水洗再用磷酸中和版面的碱,水洗干燥,涂布感光液后贮存备用。

本发明相比现有技术具有如下优点:1.提高了PS版的再生次数,是原有技术的1.2倍。2.耐印力好,印数是原有技术的1.2倍。3.减少了三废污染。4.提高了PS版的抗锈蚀能力。

实施例1

取打样后已存放两年以上的厚度为0.3毫米铝合金版基的对开阳图型PS版,涂上40毫升浓度为95~100%的工业发烟硫酸,用刷子擦拭图纹部分,数秒之内即开始脱落,待图纹全部消失,施60克左右活性白土脱除印版上的硫酸、油墨及旧感光膜等混合物。然后用水冲洗版基并用3%HY--201清洗液中和版面上残存的酸并除污,水洗至版面呈中性,接着用5%的硅酸钠水溶液在90~95℃液温下封孔20分钟,之后水洗并用3%的磷酸水溶液中和版面上的碱、水洗至版面呈中性干燥。

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