[发明专利]去污膏及其工艺

权利要求书

1、一种用于清除污垢的膏状物，由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成，所说的活性剂采用烷基苯磺酸，其助剂采用三聚磷酸钠，增稠剂采用羧甲基纤维素钠，其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。

2、根据权利要求1所述的用于清除污垢的膏状物，其特征在于各组份的重量配比如下（设总量为100）：

烷基苯磺酸：1.5-3.0  三聚磷酸钠：2.0-3.5

羧甲基纤维素钠：0.5-1.5  方解石粉：20-35

硫酸（98%含量）：0.8-2.0  硅酸钠（40Be′）：6-15

液体石蜡（工业级）：0.8-1.5  液体烧碱（含量40%）：0.8-1.5

其余部分为去离子水。

3、一种用于清除污垢的膏状物的制备工艺，根据重量配比范围称取各组份，其特征在于：

（1）液体烧碱用去离子水稀释，然后与活性剂烷基苯磺酸一起搅匀，控制PH值在8-10之间;

（2）硫酸逐渐加入硅酸钠中，进行搅拌，控制PH值在5.5～6.5之间，待结晶淅出，滤去残液;

（3）将羧甲基纤维素钠，三聚磷酸钠分别用去离子水溶解，将方解石粉与石蜡混合或不混合;

（4）然后将上述各配备好的组份加入均质机中，在常温常压下搅拌，直至均匀混合。