[发明专利]搪玻璃制品瓷釉层局部缺陷的修补方法及加热设备

说明书

本发明涉及搪玻璃制品的生产工艺及设备。

搪玻璃制品，如搪玻璃反应罐，对瓷釉层要求较高，即使是几千升的大容量反应罐，也不允许瓷釉层出现针孔的导电点。在生产过程中，一旦发现有小如针孔的瓷釉层缺陷，都要进行修补和回烧，目前的方法是先对缺陷处清洁，如打磨除锈，再用瓷釉修补，如喷涂瓷釉，最后将制品再置于高温烧成窑中重新烧成。用这种方法修补很小的缺陷，不但能源消耗大，修补工作量大，而且在瓷釉层的再次高温加热时，会出现新的缺陷，往往需要反复修补烧成，这样会使制品质量下降，影响使用寿命。

本发明的目的是提出一种对搪玻璃制品，特别象搪玻璃反应锅等大件产品，瓷釉层局部缺陷的新的修补方法，及适合于这种方法的加热设备。这种修补方法，不需将整件制品置于烧成窑中重烧，只对制品修补部位，局部加热，从而克服了现有技术能耗高，工效低、质量差的缺点。

本发明是这样构思的。象搪玻璃反应罐这样庞大的设备在出现了局部缺陷时，整件重烧，实在劳民伤财，是很大的浪费。可否只对缺陷部位进行修烧呢？众所周知，局部高温修烧，将导致应力集中，使瓷层产生大量的裂纹，冷爆。因此局部修烧的关键是如何使高温烧成时的应力得到有效释放。经试验，本发明在这方面有了重大突破。其关键是将一步烧成分为二步烧成，即先对包括修补部位的一个较大范围，用较低的温度，如500～600℃加热，再对修补部位所在的较小区域用850～950℃的高温烧成。

该范围应考虑使制品在受热膨胀和降温收缩时的应力得以释放，可为包括修补部位的一个横的环形区，或一个纵的带形区，或顶部整个椭球面区。例如当修补部位在制品的圆柱面上时，其低温加热区可以为一个横向圆环，如一次有一个以上修补部位时，该圆环允许不在同一截面上，而有高低起伏，从而对几个修补点一次完成加热，但加热环应连续且应封闭，应力才能有效释放;当修补部位在制品封头部位的椭球面上时，可对整个封头部位的椭球面加热。当修补部位在任何位置时，都可采用带形区加热法，即对自制品顶端封头中心，经过修补部位至制品下部边缘的带形区加热，这样也能使应力得以释放。在使用本发明所述的方法时，其低温加热与高温烧成的发热源可以都置于制品的内腔，对内壁加热、烧成，或都置于制品外壁，对外壁加热、烧成，也可以低温加热在外，高温烧成在内，或者低温加热在内，高温烧成在外。这可以视制品的情况，如在修补开式反应罐时，可以使用内加热、外保温法，在修补闭式反应罐时，则使用外加热法比较方便。

在使用本发明的修补方法时，原来的烧成窑已不适用，必须使用相应的加热设备。所述加热设备分为低温加热炉与高温烧成炉两种。低温加热炉由若干个发热单元依次排列并联而成，并配有测温元件与控温装置，其温度在400～700℃范围内可控，发热单元包括耐火材料的炉体，置于炉体上的发热元件，如电热丝，炉体背面（相对于发热面）设有保温层。使用这种组合式低温加热炉可根据产品的不同规格、型号、形状和修补部位进行组合，从而使用比较方便。高温烧成炉的结构与发热单元相似，包括炉体、发热元件、保温层，还有测温元件和控温装置，温度在800～1000℃范围内可控，其发热面是呈凹或凸的圆弧形，以适应烧成的形状，提高热效率。

本发明的效果十分明显，由于不需要将成吨重的整件制品重烧，而降低了能耗，提高了工效，也提高了产品质量，降低了产品成本，提高了效益。

下面结合附图与实施例对本发明作进一步的描述。

图1是内腔加热式圆环形低温加热组合炉与烧成炉。

图2是图1的俯视图;

图3是发热单元示意图;

图4是外壁式高温烧成炉;

图5是高低起伏式圆环形低温加热炉示意图;

图6是外壁加热式圆环形低温加热组合炉与烧成炉与烧成炉;

图7是图6的俯视图;

图8是内腔加热式纵向条形低温加热组合炉和外壁加热式纵向条形低温加热组合炉;

图9是内腔加热式椭球面低温加热炉;

图10是外壁加热式椭球面低温加热炉与烧成炉。

实施例1：对于开式反应罐的修补可以采用内腔加热式圆环形低温组合炉，如图1，图2，其高温烧成炉可用内腔加热式，亦可用外壁加热式。低温加热组合炉1置于开式反应罐2内腔，由若干个发热单元3排列并联而成，组成一个横向的圆环。在组合炉的上下侧，均设环状保温层带4，以提高热效率。图3中发热单元3由炉体8，电热丝9和保温层10组成。组合炉配有测温热电偶5与控温装置。