[发明专利]铜图形的电解-化学联合腐蚀方法

权利要求书

1、铜图形的电解--化学联合腐蚀方法，其特征在于：

首先将经过光刻工艺中的曝光显影和坚膜后的工件作为本蚀刻方法中所使用的工件；

其次以工件作阳极，与工件具有相似形状的铜材作阴极，将阳极和阴极均置于酸性硫酸铜电解液中，对工件上的图形进行电解蚀刻，刻去为了制作图形应完全刻除的铜材料中的绝大部分；

第三，用浓硫酸和CrO₃混合物的水稀释液在室温下对已经电解蚀刻的工件进行化学蚀刻。

2、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：所述的作为阴极的铜材料为铜环或铜板。

3、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：所述的阳极和阴极的电极配置应该使得电流对称均匀分布。

4、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：当使用电解法对工件进行蚀刻时，应使工件沿定轴旋转。

5、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：当对工件进行电解蚀刻时，观察和记录电解电流-时间曲线，当电流值下降率变小，电流值趋于平坦时，停止电解蚀刻。

6、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：所述浓硫酸和CrO₃的重量比为0.875∶1。

7、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：所述的浓硫酸和CrO₃混合物的水稀释液的稀释度可控制蚀刻速度，稀释度越高，蚀刻越慢。

8、如权利要求1所述的铜图形的电解-化学联合腐蚀方法，其特征在于：所述的阴极环内半径大于工件外半径三倍以上。