[发明专利]大环金属螯合剂聚合物及其制备方法和应用无效
申请号: | 92110851.6 | 申请日: | 1992-09-24 |
公开(公告)号: | CN1074689A | 公开(公告)日: | 1993-07-28 |
发明(设计)人: | T·G·特雷勒;Y·S·伯云 | 申请(专利权)人: | 加利福尼亚大学 |
主分类号: | C08G79/00 | 分类号: | C08G79/00;C07B33/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 董嘉扬 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 螯合剂 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
1、由至少一种大环金属螯合剂作重复单体单元所构成的聚合物,所说的大环金属螯合剂单体单元由如下的单体生成,该单体中含有至少一个易发生亲核芳香取代的离去基团取代基和至少一个电负性取代基。
2、根据权利要求1所述的聚合物,其中所述的聚合物由上述单体与多元亲核试剂的反应产物构成,反应中单体上至少一个离去基团被亲核试剂取代而形成桥连基团。
3、根据权利要求1所述的聚合物,其中进一步包含至少一种与所述的大环金属螯合剂配合的金属。
4、根据权利要求1所述的聚合物,其中所述的至少一种大环金属螯合剂选自以下一组物质:卟啉、苯基卟啉、酞菁、并卟啉苯、噁并卟啉苯、穴状配体、蓝宝石苷和冠醚。
5、根据权利要求1所述的聚合物,其中所述的单体具有式Ⅰ结构:
其中每个X分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基、非干扰取代基和R所构成的一组基团;
每个Y分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基、非干扰性取代基和R所构成的一组基团;
R是完全被Z基团取代的芳基,其中每个Z分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基和非干扰性取代基所构成的一组基团,
条件是至少一个X,Y或Z取代基为离去基团,至少另有一个X,Y或Z取代基为电负性基团。
6、根据权利要求1所述的聚合物,其中的单体具有式Ⅲ结构:
其中每个X1分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基、非干扰性取代基和R1所构成的一组基团;
B为=N-或=CY1-,其中每个Y1分别选自由电负性取代基和非干扰性取代基所构成的一组或团;
R1是完全由Z1取代的芳基,其中每个Z1分别选自由易于发生亲核芳香取代离去基团、电负性取代基和非干扰性取代基所构成的一组基团,
条件是至少一个X1或Z1取代基为离去基团,且至少另有一个X1或Z1取代基为电负性基团。
7、根据权利要求1所述的聚合物,其中的单体具有式Ⅳ的结构:
其中每个X分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基、非干扰性取代基和R所构成的一组基团;
每个Y分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基,非干扰性取代基和R所构成的一组基团;
R是完全由Z基团取代的芳基,其中每个Z分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基和非干扰性取代基所构成的一组基团,
其条件是至少一个X,Y或Z取代基为离去基团,且至少另有一个X,Y或Z取代基为电负性基团;
B4为N-H和B4′为N或者B4为O和B4′为O+。
8、根据权利要求1所述的聚合物,其中的单体具有式Ⅴ的结构:
其中每个X分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基、非干扰性取代基和R所构成的一组基团;
每个Y分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去或团、电负性取代基、非干扰性取代基和R所构成的一组基团;
R是完全由Z基团取代的芳基,其中每个Z分别选自由易于发生亲核芳香取代的离去基团、电负性取代基和非干扰性取代基所构成的一组基团,
条件是至少一个X,Y或Z取代基为离去基团,且至少另有一个X,Y或Z取代基为电负性基团。
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