[发明专利]基片传送装置

说明书

本发明涉及一种基片传送装置，即，将基片送入并使其通过真空处理设备的一种传送装置，该真空处理设备具有若干工作站、一个加热装置和若干基片支架，基片支架可以是板式、扁平状和平行六面体的，这些基片支架可在垂直状态下沿预定的传送路径通过工作站。

目前使用的基片支架要么是带有与基片相适应的凹口的薄板，要么是带有撑条的框架(基片固定在撑条上)。通常，基片支架用来装载许多扁平的和板状的基片。

上述类型的传送设备已由美国专利US-PS4042128公开。在使用这种传送设备时，平板形基片支架的主平面在其上、下边棱处，在垂直状态下，在辊子之间被导引，这些辊子可绕垂直轴旋转。在其下边棱处，基片支架还置于具有水平旋转轴的托辊上。

具有多个工作站和辊子的、用于真空涂覆设备的传送设备也已公知(见EP-254145B1)，轮子用于导引和运送基本上两维的基片支架在垂直状态下沿一条预先给定的路径通过工作站，并且在基片支架的下边棱区域设有成对的导辊，这些导辊可绕垂直轴旋转，基片支架置于其间。

这些公知的传送装置的任务在于：尽可能地排除由于涂料落下而产生的涂覆故障。

此外，曾经有人提议，给传送设备(用于真空涂覆设备)的基片支架装上支腿，支腿在固定导轨上滑动(见欧洲专利EP-0346815)。

在一份较早的专利申请中(P4029905.8，一种具有多个工作站的、用于真空加工设备的基片传送装置)，曾建议过，给每个支腿(下端部)装上一对平行的、相互间隔一定距离的、在垂直面内设置的基片支架。一个加热器装进基片支架之间的井状张开区，该加热器从真空室的上壁面垂直向下延伸。

公知的这些装置的缺点是，由于基片所需温度约为450℃，这就不可避免地对基片支架产生温度影响，而且这种温度影响会使整个装置产生热膨胀和变形。由于基片和基片滚柱导轨的尺寸公差较小，热影响产生的所有构件的尺寸改变也大大影响了设备运行的安全性和可靠性，并导致了大多为全自动的设备产生故障。致使这些设备中断运行，造成较大浪费。

此外，当一基片支架从涂覆区送出及另一基片支架送进时，固定安装在基片支架之间空腔内的加热器也被涂上了涂料。这样，随着操作时间的增加就导致了加热器的功率损耗。

本发明的主要目的是：研制一种对温度影响不敏感且在高温情况下保障设备稳定的无故障运行的装置。此外，最好避免加热器的涂覆以便尽量延长维修的间隔时间。

本发明的目的是这样完成的：在真空室内给实心的下端部装上保持和导引装置，并给该下端部装上用金银丝工艺制成的(filigran)平面框架结构的上端部，待加工的基片借助于一个基片支架保持在该框架上，并且基片支架可活动地悬挂保持在框架上，这样，当加热造成长度改变时，可产生相对运动。

这种一致的、用金银丝工艺制成的(filigran)框架结构，不仅整个上端部而且基片支架的质量较小，并且部件之间可活动地固定，这样就使得装置对温度影响很不敏感及尺寸不易变形。

通过在基片支承框架的垂直支撑上安装侧面屏蔽板，对基片加热器的涂覆得以避免。

其它的实施  可能性和特征在从属权利要求中被进一步描述和说明。

本发明可以有各种不同的实施例，其中之一作为例子在附图中详细画出。

图1：在两个相对的喷雾源之间的、装有基片的基片支架的剖视

     图。

图2：图1所示基片支架的侧视图。

图3：沿图2X-X剖开的剖视图。

图4：具有轮——导轨装置的基片支架的剖视图。

在涂覆室(为了简便起见，未在图中画出)内装有两个喷雾源1、2(见图1)，该喷雾源的工作平面3、4间距相等且对称布置。在这两个喷雾源1、2之间有一个支承架5，该支承架由实心的下端部6及杆件式结构的上端部7构成。在下端部6内，设置有一个装置(图中未绘出)，该装置用于保持和导引涂覆室中支承架。上端部7由每边两个垂直的支撑8、9及两个水平的支撑10、11组成，垂直支承8、9固定在下端部6的两相对的端部，水平支撑10、11如图所示总是与垂直支撑8、9的上端相连接。

由每边两个垂直支撑8、9和每边一个水平支撑10、11构成的两个框架不是封闭的，而是在每两个部件之间至少有一个活动部位。因此，当热引起长度改变时，支承架5不会产生变形。