[发明专利]双涂层罩面涂层生产方法及其中所用无水涂料无效
申请号: | 93101503.0 | 申请日: | 1993-02-15 |
公开(公告)号: | CN1039916C | 公开(公告)日: | 1998-09-23 |
发明(设计)人: | U·罗克拉思;G·威戈;U·泊斯 | 申请(专利权)人: | 巴斯福拉克和法本股份公司 |
主分类号: | C09D175/04 | 分类号: | C09D175/04;B05D1/36;B05D3/02;B05D7/16;C09D175/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 吴大建 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂层 生产 方法 其中 所用 无水 涂料 | ||
1.生产双涂层罩面涂层的方法,其中
(1)加颜料底层涂在基体表面上,
(2)由步骤(1)中所涂底层形成聚合物膜,
(3)将无水涂料作为透明面层漆涂到形成的底层上,其中面层漆包括
(A)含羟基合成树脂或其混合物,
(B)氨基树脂或其混合物和
(C)受保护多异氰酸酯或其混合物
然后(4)将底层和面层一起烘烤,
其特征在于步骤(3)所用透明面层漆中组分(C)包括用保护剂(I)和(II)二者保护的异氰酸酯基,
保护剂(I)为丙二酸二烷基酯或其混合物,
保护剂(II)为不同于(I)且含活性亚甲基的保护剂,肟或其混合物以及
用(I)保护的异氰酸酯基和用(II)保护的异氰酸酯基间的当量比为1.0∶1.0至9.0∶1.0。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于组分(A)的羟值为40-240且存在量为50-90wt%,组分(B)的存在量为5-45wt%,而组分(C)的存在量为5-45wt%,重量百分数以(A)+(B)+(C)=100wt%为基准计。
3.根据权利要求2的方法,其特征在于组分(A)的羟值为60-150。
4.根据权利要求2的方法,其特征在于组分(A)的存在量为60-75wt%。
5.根据权利要求2的方法,其特征在于组分(B)的存在量为10-25wt%。
6.根据权利要求2的方法,其特征在于组分(C)的存在量为10-25wt%。
7.根据权利要求1的方法,其特征在于组分(C)中所含受保护异氰酸酯基与脂族或环脂族基团相连。
8.根据权利要求1的方法,其特征在于组分(C)包括受保护的六亚甲基二异氰酸酯,受保护的异佛尔酮二异氰酸酯或受保护的六亚甲基二异氰酸酯与受保护的异佛尔酮二异氰酸酯的混合物。
9.根据权利要求1的方法,其特征在于保护剂(I)是丙二酸二乙酯。
10.根据权利要求1的方法,其特征在于不同于(I)且含有活性亚甲基的保护剂是烷基部分具有1-6个碳原子的乙酰乙酸烷基酯或其混合物。
11.根据权利要求10的方法,其特征在于不同于(I)且含有活性亚甲基的保护剂是乙酰乙酸乙酯。
12.根据权利要求1的方法,其特征在于保护剂(II)是甲乙酮肟。
13.根据权利要求1的方法,其特征在于用(I)保护的异氰酸酯基和用(II)保护的异氰酸酯基间的当量比为8.0∶2.0至6.0∶4.0。
14.根据权利要求13的方法,其特征在于该当量比为7.5∶2.5至6.5∶3.5。
15.无水涂料,包含
(A)含羟基合成树脂或其混合物,
(B)氨基树指或其混合物,和
(C)受保护的多异氰酸酯或其混合物,
其特征在于组分(C)包含用保护剂(I)和保护剂(II)保护的异氰酸酯基,
保护剂(I)为丙二酸二烷基酯或其混合物,
保护剂(II)为不同于(I)且含活性亚甲基的保护剂,肟或基混合物以及
用(I)保护的异氰酸酯基和用(II)保护的异氰酸酯基间的当量比为1.0∶1.0至9.0∶1.0。
16.根据权利要求15的涂料,其特征在于组分(A)的羟值为40-240且存在量为50-90wt%,组分(B)的存在量为5-45wt%,而组分(C)的存在量为5-45wt%,重量百分数以(A)+(B)+(C)=100wt%为基准计。
17.根据权利要求16的方法,其特征在于组分(A)的羟值为60-150。
18.根据权利要求16的方法,其特征在于组分(A)的存在量为60-75wt%。
19.根据权利要求16的方法,其特征在于组分(B)的存在量为10-25wt%。
20.根据权利要求16的方法,其特征在于组分(C)的存在量为10-25wt%。
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