[发明专利]杂环衍生物无效
申请号: | 93102009.3 | 申请日: | 1993-03-02 |
公开(公告)号: | CN1075964A | 公开(公告)日: | 1993-09-08 |
发明(设计)人: | 奥照夫;漱户井宏行;茅切浩;佐藤茂树;井上隆幸;泽田由纪;黑田昭雄;田中洋和 | 申请(专利权)人: | 藤泽药品工业株式会社 |
主分类号: | C07D403/14 | 分类号: | C07D403/14;A61K31/415;//;23526;207325;25704) |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孟八一,王景朝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衍生物 | ||
1、下式化合物及其可药用的盐:
式中R1是氢,卤素,硝基,低级烷基,低级烷氧基,氨基或酰氨基,
R2,R3和R4各自为氢,卤素,硝基,氰基,低级烷基,低级链烯基,低级烷硫基,单或二或三卤代(低级)烷基,氧代(低级)烷基,羟基(低级)烷基或任意酯化的羧基;或
R2和R3连在一起形成1,3-亚丁二烯基,
R5是氢或亚氨基-保护基,
R6是低级烷基,
R7是硝基,任意酯化或酰胺化的羧基或任意取代的氨基,
A是低级亚烷基,
Q是CH或N,
X是N或CH,
Y是NH,O或S,和
Z是S,SO2或O。
2、权利要求1的化合物,由下式表示:
式中R6和A各自如权利要求1中所述限定,
R7是任意酯化的羧基,
R9是下式基团:
式中R5如权利要求1中所限定,和
R2a,R2b和R3a各自为低级烷基,和
R3b,R3c和R4a各自为氢,卤素或低级烷基。
3、权利要求2的化合物,由下式表示:
式中R6,R7和R9各自如权利要求2中所限定。
4、权利要求3的化合物,其中
R7是羧基,低级烷氧羰基,
低级烷氧羰基(低级)烷氧基羰基,
低级烷氧羰基(低级)链烯氧基羰基,
低级链烷酰氧基(低级)烷氧羰基,
环烷基羰基氧基(低级)烷氧羰基,
苯甲酰氧基(低级)烷氧羰基,
低级烷基哌啶基羰基氧基(低级)烷氧羰基,
低级烷氧羰基氧基(低级)烷氧羰基,
环烷氧基羰基氧基(低级)烷氧羰基,
(5-低级烷基-2-氧代-1,3-二氧杂环戊烯-4-基)(低级)烷氧羰基,
(5-苯基-2-氧代-1,3-二氧杂环戊-4-基)(低级)烷氧羰基,
2-苯并[C]呋喃酮-3-亚基(低级)烷氧羰基。
5、权利要求4的化合物,由下式代表:
式中R6和R7各自如权利要求4中所限定,R3c是低级烷基。
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