[发明专利]杂环衍生物无效

专利信息
申请号: 93102009.3 申请日: 1993-03-02
公开(公告)号: CN1075964A 公开(公告)日: 1993-09-08
发明(设计)人: 奥照夫;漱户井宏行;茅切浩;佐藤茂树;井上隆幸;泽田由纪;黑田昭雄;田中洋和 申请(专利权)人: 藤泽药品工业株式会社
主分类号: C07D403/14 分类号: C07D403/14;A61K31/415;//;23526;207325;25704)
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孟八一,王景朝
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 衍生物
【权利要求书】:

1、下式化合物及其可药用的盐:

式中R1是氢,卤素,硝基,低级烷基,低级烷氧基,氨基或酰氨基,

R2,R3和R4各自为氢,卤素,硝基,氰基,低级烷基,低级链烯基,低级烷硫基,单或二或三卤代(低级)烷基,氧代(低级)烷基,羟基(低级)烷基或任意酯化的羧基;或

R2和R3连在一起形成1,3-亚丁二烯基,

R5是氢或亚氨基-保护基,

R6是低级烷基,

R7是硝基,任意酯化或酰胺化的羧基或任意取代的氨基,

A是低级亚烷基,

Q是CH或N,

X是N或CH,

Y是NH,O或S,和

Z是S,SO2或O。

2、权利要求1的化合物,由下式表示:

式中R6和A各自如权利要求1中所述限定,

R7是任意酯化的羧基,

R9是下式基团:

式中R5如权利要求1中所限定,和

R2a,R2b和R3a各自为低级烷基,和

R3b,R3c和R4a各自为氢,卤素或低级烷基。

3、权利要求2的化合物,由下式表示:

式中R6,R7和R9各自如权利要求2中所限定。

4、权利要求3的化合物,其中

R7是羧基,低级烷氧羰基,

低级烷氧羰基(低级)烷氧基羰基,

低级烷氧羰基(低级)链烯氧基羰基,

低级链烷酰氧基(低级)烷氧羰基,

环烷基羰基氧基(低级)烷氧羰基,

苯甲酰氧基(低级)烷氧羰基,

低级烷基哌啶基羰基氧基(低级)烷氧羰基,

低级烷氧羰基氧基(低级)烷氧羰基,

环烷氧基羰基氧基(低级)烷氧羰基,

(5-低级烷基-2-氧代-1,3-二氧杂环戊烯-4-基)(低级)烷氧羰基,

(5-苯基-2-氧代-1,3-二氧杂环戊-4-基)(低级)烷氧羰基,

2-苯并[C]呋喃酮-3-亚基(低级)烷氧羰基。

5、权利要求4的化合物,由下式代表:

式中R6和R7各自如权利要求4中所限定,R3c是低级烷基。

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