[发明专利]新型氨基醇衍生物及其盐无效
申请号: | 93106653.0 | 申请日: | 1993-06-09 |
公开(公告)号: | CN1105354A | 公开(公告)日: | 1995-07-19 |
发明(设计)人: | 松田光阳;原田博规;都筑龙二;森平浩一郎;伊藤德树;角田裕俊;饭泉祜一 | 申请(专利权)人: | 山之内制药株式会社 |
主分类号: | C07C229/40 | 分类号: | C07C229/40;C07D333/36;A61K31/195;A61K31/38 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 刘立平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 新型 氨基 衍生物 及其 | ||
1、通式(Ⅰ)所表示的化合物,其制药学上容许的盐、制药学上容许的水合物、制药学上容许的溶剂合物或它们的立体异构体
式中符号表示如下:
R1:氢原子、低级烷基、低级烷酰基或芳烷基
R2:可被羟基取代的低级烷基或式
所表示的基团
B环:苯环或具有由1至3个N、O或S构成的杂原子的五元或六元杂环
R3:氢原子、低级烷基、低级链烯基、低级烷酰基、低级烷氧羰基或芳基
R4:低级烷基
R5、R6、R7:相同或不同地为氢原子、卤原子、烷基、低级烷氧基、芳氧基或氰基(但R5、R6、R7中相邻两个也可连在一起,表示-(CH2)4-,-(CH2)3-,-CH=CH-CH=CH-或
n:0至3的整数。
2、按权利要求1所述的化合物,其中R1、R3基相同或不同地为氢原子或低级烷基,R4基为低级烷基,n=0,同时R2为噻嗯基或苯基。
3、(E)或(Z)-3-[3-[3-[[N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-乙氨基]甲基]苯氧基]-2-甲氧丙基]噻吩-3-胺,其制药学上容许的盐或其立体异构体。
4、(E)-3-[3-[3-[[N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基-N-乙氨基]甲基]苯氧基]-(R)-2-甲氧丙基]噻吩-3-胺或其制药学上容许的盐。
5、(E)-3-[3-[3-[[N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-乙氨基]甲基]苯氧基]-(S)-2-甲氧丙基]噻吩-3-胺或其制药学上容许的盐。
6、(E)或(Z)-N-[3-[3-[[N-6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-乙氨基]甲基]苯氧基]-2-甲氧丙基]-N-甲基噻吩-3-胺,其制药学上容许的盐或其立体异构体。
7、(E)-N-[3-[3-[[N-6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-乙氨基]甲基]苯氧基](R)-2-甲氧丙基]-N-甲基噻吩-3-胺或其制药学上容许的盐。
8、(E)-N-[3-[3-[[N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-乙氨基]甲基]苯氧基]-(S)-2-甲氧丙基]-N-甲基噻吩-3-胺或其制药学上容许的盐。
9、(E)或(Z)-N-[3-[3-[[N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-丙氨基]甲基]苯氧基]-2-甲氧苯基]-N-甲基噻吩-3-胺,其制药学上容许的盐或其立体异构体。
10、(E)或(Z)-N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-乙基-3-[2-甲氧基-3-(N-甲基苯胺基)丙氧基]苄胺,其制药学上容许的盐或其立体异构体。
11、含有权利要求1所述药理学有效量的化合物(Ⅰ)、其制药学上容许的盐、制药学上容许的水合物、制药学上容许的溶剂合物或它们的立体异构体及制药学上容许的载体的医药组合物。
12、按权利要求11所述的医药组合物,其特征在于可用作角鲨烯环氧酶抑制剂。
13、按权利要求11所述的医药组合物,其特征在于可用作降胆固醇药。
14、通式(Ⅰ)所示化合物,其制药学上容许的盐、制药学上容许的水合物、制药学上容许的溶剂合物或它们的立体异构体的制备方法
式中符号表示如下:
R1:氢原子,低级烷基、低级烷酰基或芳烷基
R2:可被羟基取代的低级烷基或式
所表示的基团
B环:苯或具有由1至3个N、O或S构成的杂原子的五元或六元杂环
R3:氢原子、低级烷基、低级链烯基、低级烷酰基、低级烷氧羰基或芳基
R4:低级烷基
R5、R6、R7:相同或不同的为氢原子、卤原子、烷基、低级烷氧基、芳氧基或氰基(但R5、R6、R7中相邻两个也可连在一起,表示-(CH2)4-,-(CH2)3-,-CH=CH-CH=CH-或基团
n:0至3的整数
该制备方法的特征在于:
(a)对于R1为氢原子的化合物,将通式(Ⅱ)
(式中,R2、R3和n意义如前所述)所示胺衍生物与通式(Ⅲ)
(式中,R4意义如前所述)所示环氧化合物反应;或
(b)将通式
(式中,R2、R3和n意义如前所述)所示胺衍生物与通式(Ⅳ)
(式中,R4定义如前,R1表示卤原子或有机磺酸残基,R8表示低级烷基、低级烷酰基、芳烷基或羟基的保护基)所示卤化物或磺酸酯反应,当上式中R8为羟基的保护基时,接着除去该保护基;或
(c)对于R1为氢原子的化合物,将通式(Ⅴ)
式中,R2、R3和n定义如前)所示环氧化合物与
式中,R4定义如前,M为氢原子或碱金属)所示酚或碱金属酚盐反应;或
(d)将通式
(式中,R2、R3、R8和n定义如前,X2为卤原子)所示卤化物与通式
(式中,R4和M定义如前)所示酚或酚盐反应,必要时除去保护基;或
(e)通式(Ⅷ)所示苄胺衍生物或苄卤或苯甲磺酸酯衍生物
与通式(Ⅸ)所示(6,6-二甲基-2-庚烯-4-基)卤化物或磺酸酯、低级烷基卤化物或磺酸酯,或N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-低级烷胺
[式中,R2、R3、R8和n定义如前,当上式(Ⅸ)中E1为式(式中R4定义如前)或式所示基团时,D1为卤原子或有机磺酸残基;当E1为卤原子或有机磺酸残基时,D1为式(式中R4定义如前)或式所示基团,当上式(Ⅷ)中D1为式所示基团(式中R4定义如前)时,R9为式所示基团;当D1为式
所示基团时,R9为上述R4所示基团;当D1为卤原子或有机磺酸残基,同时E1为式所示基团时,R9为式所示基团;当D1为卤原子或有机磺酸残基,同时E1为式所示基团时,R9为上述R4所示基团]
进行反应,必要时除去保护基;或
(f)将通式(Ⅹ)
(式中,R2、R3、R8和n定义如前)所示苯甲醛与通式
(式中,R4定义如前)所示胺在还原剂存在下进行反应;或
(g)对于R1为低级烷基或芳烷基的化合物,将通式(Ⅰc)
(式中,R2,R3,R4、n和M定义如前)所示醇或醇盐与通式(Ⅻ)
(式中,X2定义如前,R11为低级烷基或芳烷基)所示卤化物或磺酸酯进行反应;或
(h)对于R1为低级烷酰基的化合物,将通式(Ⅰa)
式中,R2、R3、R4和n定义如前)所示化合物或其活性衍生物与通式(ⅩⅢ)
或其活性衍生物
(式中,R12为碳原子数1-5个的低级烷基)所示羧酸或其活性衍生物进行反应。
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