[发明专利]立体选择性糖基化方法无效
申请号: | 93109045.8 | 申请日: | 1993-06-21 |
公开(公告)号: | CN1040114C | 公开(公告)日: | 1998-10-07 |
发明(设计)人: | 周大森;D·P·基耶尔;L·W·赫特尔;C·D·琼斯;L·M·波蒂特;C·S·格罗斯曼;R·E·霍尔斯;T·E·马布里 | 申请(专利权)人: | 伊莱利利公司 |
主分类号: | C07H19/073 | 分类号: | C07H19/073 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王其灏 |
地址: | 美国印*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 立体 选择性 糖基化 方法 | ||
1.制备下式β异头物富集的核苷的方法其中T为氟而R为选自如下基团的核碱
其中R1选自氢,烷基,取代的烷基和卤素:R2选自羟基,卤素,叠氨基,伯胺基和仲胺基;R4,R5和R6独立地选自氢,-OH,-NH2,N(烷基)W,卤素,烷氧基和硫代烷基;Q选自CH,CR8和N;其中R8选自卤素,甲酰氨基,硫代甲酰氨基,烷氧羰基和氰基,该方法包括用至少一摩尔当量的选自如下的核碱(R″):
其中R1、R2、R4、R5、R6、Q和M+如前定义;Z为羟基保护基; W为氨基保护基;任选地在一种适宜溶剂中进行SN2亲核取代下式α异头物富集的糖的磺酰氧基(Y);
其中X独立地选自羟基保护基而T如前定义,其中,所述的SN2取代反应是在约170℃-120℃的温度下进行的:
和将所述的式(II)的化合物脱去保护以生成式(I)的化合物。
2.权利要求1的方法,其中R″选自
其中R1选自氢,烷基,取代的烷基和卤素’Z为羟基保护基;而W为氨基保护基;其中Y选自烷基磺酰氧基,芳基磺酰氧基、取代的烷基磺酰氧基和取代的芳基磺酰氧基;反应在糖浓度高于每单位体积溶剂为20%(重量)的溶液中进行’其中溶剂为沸点高于70℃的惰性溶剂。
3.权利要求1的方法,其中R″选自
其中R1选自氢,烷基,取代的烷基和卤素;R2选自羟基,卤素,叠氨基,伯胺基和仲氨基;Z为羟基保护基而W为氨基保护基;其中Y选自三氟甲磺酰氧基,1,1,1-三氟乙磺酰氧基,八氟丁磺酰氧基和九氟丁磺酰氧基,其中SN2取代反应在-120℃至25℃的温度并在在低冰点惰性溶剂中进行。
4.权利要求1的方法,其中R″选自
其中R1选自氢,烷基,取代的烷基和卤素;Z为羟基保护基而W为氨基保护纂;Y选自烷基磺酰氧基,芳基磺酰氧基、取代的烷基磺酰氧基和取代的芳基磺酰氧基;所述的反应在催化剂存在下进行。
5.权利要求4的方法,其中催化剂选自基本上溶于溶剂,含有非亲核性阴离子的高度离子化盐。
6.权利要求4或5的方法,其中溶剂选自掇性、非亲核性溶剂。
7.权利要求1的方法,其中R″选自
其中R2选自羟基,卤素,叠氨基,伯胺基和仲胺蒸;R4,R5和R6独立地选自氢,-OH,-NH2,N(烷基)W,卤素,烷氧基,和硫代烷基;Q选自CH,CR8和N;其中R8选自卤素,甲酰氨基,硫代甲酰氨基,烷氧羰基,和氰基,Z为羟蔫保护基;W为氨基保护基;而M+为阳离子;其中Y选自三氟甲磺酰氧基,1,1,1-三氟乙磺酰氧基,八氟丁磺酰氧基和九氟丁磺酰氧基;其中溶剂为冰点低于26℃的情性溶剂。
8.权利要求1的方法,在无溶剂存在下进行,其中R″选自
其中R1选自氢,烷基,取代的烷基和卤素;Z为羟基保护基而W为氨基保护基;其中Y选自烷基磺酰氧基,芳基磺酰氧基、取代的烷基磺酰氧基和取代的芳基磺酰氧基。
9.权利要求8的方法,其中反应温度为100℃至160℃。
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