[发明专利]光电供电设备无效
| 申请号： | 93114230.X | 申请日： | 1993-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN1035912C | 公开（公告）日： | 1997-09-17 |
| 发明（设计）人： | 杨永清 | 申请（专利权）人： | 杨永清;杨洪雯;杨洪东 |
| 主分类号： | H02J7/00 | 分类号： | H02J7/00;H01L31/04;H01L27/142 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 134001 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光电 供电 设备 | ||
【权利要求书】：
1、一种光电供电设备，由光电池依次连接振荡装置、低频放大装置、功率放大装置组成，其特征是，该光电池的芯片是由多层复合膜构成的，其各层膜的材料及其膜厚如下：
A层为含硼硅层，膜厚20；
B层为锗层，膜厚8μm；
C层为砷化镓层，膜厚3μm；
D层为铋层，膜厚250nm；
E层为含磷硅层，膜厚240；
F层为碲、铟、铜层，膜厚20μm；
G层为硒层，膜厚40μm。
2、根据权利要求1所述的光电供电设备，其特征是，所述的光电池芯片是由7层不同材料的膜复合组成的，以7层为一组，可以是一组或多组复合组成，组与组之间有隔离层，它是二氧化硅膜，膜厚20nm。
3、根据权利要求1或2所述的光电供电设备，其特征是，所述的光电池芯片中的各层复合膜均用激光刻划机刻成线槽，分割成条块，其中B、C、D层上刻有P沟道，E、F、G层上刻有N沟道，各层上线槽、P沟道、N沟道均不重叠。
4、根据权利要求1或2所述的光电供电设备，其特征是，所述的光电池芯片中，每组的A、B、C、D层与光电池的透明电板2连接，每组的E、F、G层与光电池电极4连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨永清;杨洪雯;杨洪东，未经杨永清;杨洪雯;杨洪东许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/93114230.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
